计算机系统 cmos电路图,CMOS集成电路版图TannerL-Edit设计入门

本文详细介绍了CMOS集成电路版图设计的基础知识,特别是使用Tanner L-Edit工具进行设计的过程。内容涵盖版图设计的概念、流程,以及Tanner L-Edit的使用,包括设计规则、参数设置、版图验证和设计实例,如反相器的设计。此外,文章还强调了设计规则在版图设计中的重要性和应用。
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1、nCMOS集成电路版图 TannerL-Edit设计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 主要内容:主要内容: n版图设计概念; n版图设计流程及在IC设计中的位置; nTanner版图流程举例(反相器等)。 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 版图设计概念 定义:版图设计是创建工程制图(网表)的精确 的物理描述过程,而这一物理描述遵守有制造 工艺、设计流程以及通过仿真显示为可行的性 能要求所带来的一系列约束。 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 。

2、双极集成电路版图设计双极集成电路版图设计 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 MOSMOS集成电路版图设计集成电路版图设计 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 电压比较器电压比较器 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 运算放大器运算放大器 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 版图设计流程 流程的定义:流程是一系列有效方法的。

3、集合,应用流程是一系列有效方法的集合,应用 这些方法,可以实现和验证一个设计思想的有效描述,这些方法,可以实现和验证一个设计思想的有效描述, 使最终的结果显示出预期功能的适当特性。使最终的结果显示出预期功能的适当特性。 全定制:起因于设计工程师对设计的所有方面有完全起因于设计工程师对设计的所有方面有完全 定制的自由。定制的自由。 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 模拟版图设计流程 电路输入 规范 电路验证 版图验证 版图参数提取 版图输入 实现 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 CMOS VLS。

4、I制造工艺(略) 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 Tanner版图流程举例(反相器) 集成电路设计近年来发展相当迅速,许多设 计需要借助计算机辅助设计软件。 作为将来从事集成电路设计的工作人员, 至少需要对版图有所了解,但是许多软件(如 cadence)实在工作站上执行的,不利于初学 者。 L-Edit软件是基于PC上的设计工具,简单易 学,操作方便,通过学习,掌握版图的设计流 程。 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 Tanner Pro简介:简介: Tanner Pro是一套集成电路设计软件。

5、,包括是一套集成电路设计软件,包括S- EDIT,T-SPICE,W-EDIT,L-EDIT,与,与LVS ,他们,他们 的主要功能分别如下:的主要功能分别如下: 1、S-Edit:编辑电路图 2、T-Spice:电路分析与模拟 3、W-Edit:显示T-Spice模拟结果 4、L-Edit:编辑布局图、自动配置与绕线、设计规则检查、 截面观察、电路转化 5、LVS:电路图与布局结果对比 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成。

6、电路版图TannerL-Edit设 计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 设计参数的设置SetupDesign n该对话框共有六页,分别是: Technology(工艺参数)、Grid(网格参数)、 Selection(选择参数)、Drawing(绘图参数)、 Curves(曲线参数)、Xre

什么是版图? 根据逻辑与电路功能和性能要求以及工艺水平要求来设计光刻用的掩膜版图,实现IC设计的最终输出。   版图是一组相互套合的形,各层版图相应于不同的工艺步骤,每一层版图用不同的案来表示。 版图与所采用的制备工艺紧密相关。   版图设计就是按照线路的要求和一定的工艺参数,设计出元件的形并进行排列互连,以设计出一套供IC制造工艺中使用的光刻掩膜版的形,称为版图或工艺复合。   版图设计是制造IC的基本条件,版图设计是否合理对成品率、电路性能、可靠性影响很大,版图设计错了,就一个电路也做不出来。若设计不合理,则电路性能和成品率将受到很大影响。版图设计必须与线路设计、工艺设计、工艺水平适应。版图设计者必须熟悉工艺条件、器件物理、电路原理以及测试方法。   作为一位版图设计者,首先要熟悉工艺条件和器件物理,才能确定晶体管的具体尺寸。铝连线的宽度、间距、各次掩膜套刻精度等。其次要对电路的工作原理有一定的了解,这样才能在版图设计中注意避免某些分布参量和寄生效应对电路产生的影响。同时还要熟悉调试方法,通过对样品性能的测试和显微镜观察,可分析出工艺中的间题。也可通过工艺中的问题发现电路设计版图设计不合理之处,帮助改版工作的进行。特别是测试中发现某一参数的不合格,这往往与版图设计有关。   硅平面工艺是制造MOS IC 的基础。利用不同的掩膜版,可以获得不同功能的集成电路。因此,版图设计成为开发新品种和制造合格集成电路的关键。   1、手工设计 2、计算机辅助设计(CAD) 3、自动化设计   人工设计和绘制版图,有利于充分利用芯片面积,并能满足多种电路性能要求。但是效率低、周期长、容易出错,特别是不能设计规模很大的电路版图。因此,该方法多用于随机格式的、产量较大的MSI和LSI或单元库的建立,也用于复杂的模拟集成电路设计
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