半导体终极武器光刻机:为何中国难望ASML项背?!有了全套图纸也做不出来

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来源: XuS风险创投行


指甲盖大小的芯片,密布千万电线,纹丝不乱,需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度,决定了芯片的上限。


EUV

半导体业的终极武器


这全靠总部后头那栋最高机密的巨型厂房,里头身穿无尘衣的员工正在组装,如同货柜车般大的EUV微影系统3350B之赐。这是令全球半导体业引颈期待的「终极武器」。


台积电、英特尔都寄望,这台史上最昂贵的「工具机」,会在2017年开始试产的七纳米制程大发神威,成为主力机种。


全球每年生产上百亿片的手机晶片、记忆体,数十年来都仰赖程序繁琐,但原理与冲洗照片类似的曝光显影制程生产。


其中以投射出电路图案的微影机台最关键、也最昂贵。过去十多年,全球最先进的微影机,都采用波长一九三奈米的深紫外光,然而英特尔、台积电量产的最先进电晶体,大小已细小到仅有数十个奈米。这形同用同一支笔,要写的字却愈来愈小,最后笔尖比要写的字还粗的窘境。


要接替的「超细字笔」,技术源自美国雷根时代「星战计划」,波长仅有十三奈米的EUV;依照该技术的主要推动者英特尔规划,2005年就该上阵,量产时程却一延再延。


因为这个技术实在太难了: EUV光线的能量、破坏性极高,制程的所有零件、材料,样样挑战人类工艺的极限。例如,因为空气分子会干扰EUV光线,生产过程得在真空环境。而且,机械的动作得精确到误差仅以皮秒(兆分之一秒)计。


最关键零件之一,由德国蔡司生产的反射镜得做到史无前例的完美无瑕,瑕疵大小仅能以皮米(奈米的千分之一)计。


这是什么概念?ASML总裁暨CEO温彼得(Peter Wennink)接受《天下》独家专访时解释,如果反射镜面积有整个德国大,最高的突起处不能高于一公分高。


「满足这类(疯狂)的要求,就是我们的日常工作,」两年前由CFO接任CEO的温彼得说。


因为EUV的技术难度、需要的投资金额太高,另外两大微影设备厂──日本的Nikon和佳能,都已放弃开发。ASML俨然成为半导体业能否继续冲刺下一代先进制程,开发出更省电、运算速度更快的电晶体的最后希望。


「如果我们交不出EUV的话,摩尔定律就会从此停止,」温彼得缓缓地说。因此,三年前,才会出现让ASML声名大噪的惊天交易。


英特尔、台积电、三星等彼此竞争的三大巨头,竟联袂投资ASML41亿、8.38亿、5.03亿欧元。(台积电已于去年五月出售ASML的5%持股,获利214亿台币)


 温彼得解释,当时各大厂都要求EUV的研发进度加快,他告诉这些顾客,「希望加快EUV的研发进度,我们就得加倍研发支出。」


于是,ASML研发经费倍增到现在的每年十三亿欧元的规模。多出的一倍,ASML自己出一半,三大半导体巨头合出另一半。


「能够让顾客帮你买单,制造做到最厉害就是这样了,」台湾半导体设备大厂,帆宣总经理林育业佩服地说。


「ASML(在半导体业)的关键地位,真是无与伦比,」上银董事长卓永财也表示。


 “十二五”科技成就展览上,上海微电子装备公司(SMEE)生产的中国最好的光刻机,与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是90纳米,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。国外已经做到了十几纳米。


祖传的磨镜手艺


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ASML EVU光刻机 问世时售价曾达1亿美元 


光刻机跟照相机差不多,它的底片,是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机,缩微投射到底片,蚀刻掉一部分胶,露出硅面做化学处理。制造芯片,要重复几十遍这个过程。


位于光刻机中心的镜头,由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。SMEE光刻机使用的镜片,得数万美元一块。


ASML的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做到均匀,需几十年到上百年技术积淀。


“同样一个镜片,不同工人去磨,光洁度相差十倍。”SMEE总经理贺荣明说,他在德国看到,抛光镜片的工人,祖孙三代在同一家公司的同一个职位。


另外,光刻机需要体积小,但功率高而稳定的光源。ASML的顶尖光刻机,使用波长短的极紫外光,光学系统极复杂。


十三年前的上一场革命


半导体业上一个革命性变革,发生在十三年前。现任台积电研发副总、世界微影技术权威林本坚,在当时力排众议,认为将市面既有的一九三奈米微影透过水折射,效果可较当时被期待接棒的一五七奈米为佳。


ASML也迅速呼应台积电,一年后,推出世界第一台以水为介质的浸润式微影实验样机。该技术大受欢迎,迅速成为业界主流,日本的Nikon与佳能投入巨资研发的一五七奈米微影技术,竟从此被搁置。


这是这家半导体设备业的后起之秀,成为世界第一的关键转折。该公司在微影市场的市占率因此从二〇〇一年的二五%,一路快速爬升到现在的八○%。


为何在历史性的关键时刻,ASML可迅速抓住机会,并达成技术的跳跃发展?


温彼得对这个问题胸有成竹, 「这得归功于我们『开放式创新』(open innovation)的架构。」


3万个机械件全要可靠


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有顶级的镜头和光源,没极致的机械精度,也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下。两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多。


贺荣明说:“相当于两架大飞机从起飞到降落,始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀,在另一架飞机的米粒上刻字,不能刻坏了。”


而且,温湿度和空气压力变化会影响对焦。“机器内部温度的变化要控制在千分之五度,得有合适的冷却方法,精准的测温传感器。”贺荣明说。


SMEE最好的光刻机,包含13个分系统,3万个机械件,200多个传感器,每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛,任何一个人发挥失常就要输球。


核心关键技术必须自主发展


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日本一桥大学创新研究中心教授中马宏之,曾对日本微影双雄的败因深入检讨。他在研究论文指出,艾司摩尔微影机台有九○%以上零件向外采购,比例远比竞争对手Nikon与佳能为高,「这种独特的采购策略,是ASML成为市场领导者的关键。」


中马宏之认为,高度外包的策略,让ASML可以快速取得各领域最先进的技术,让自己专注在客户的需求,以及系统整合等两大关键重点。


这种大胆的外包策略,最大的隐忧在于,半导体科技发展快速,每个供应商每一年都有严苛的新任务待达成,万一有人掉队,拖累整个系统的进度怎么办?


「有些(关键)技术我们得自己发展,」ASML总裁暨技术长布令克(Martin van den Brink)说,他是三十一年前ASML从飞利浦独立出来的第一批工程师成员。


例如,两年前台积电公开表示,EUV要商用化,全新光罩的原生缺陷(defect)还必须进一步降低十倍。否则制出晶圆的良率会低到市场难以接受。


图纸并非关键


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2002年SMEE成立,是中国政府为了填补光刻机空白而立项。贺荣明去德国考察时,有工程师告诉他:“给你们全套图纸,也做不出来。”贺荣明几年后理解了这句话。


并不是说图纸不重要,贺荣明说,如何将系统的误差分配到子系统,设计有高下之分。但顶级光刻机也需要细节上的技术洁癖。“一根光纤,一行软件编码,一个小动作,如果不兢兢业业做好,整个系统就不优秀。”贺荣明说。


“发展光刻机,需要高素质的人群。所以我们做来做去,做最多的是培养人,改变人。”贺荣明说,这需要他们用五十年一百年的长远眼光去做事情,而不是期望几个月解决问题。


 如今SMEE每年增加数百项专利,活得很好,以中低端市场支持高端研发。而国际巨头仍在前进,发展浸没式光刻机(光在水中波长更短)、磁悬浮驱动(减少工作面震动)、反射镜代替透镜技术、真空腔体的极紫外光学系统。


不找供应商找的是长期伙伴


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布令克率领的技术团队,针对这个重大的技术瓶颈,在今年推出革命性的可移动光罩薄膜(removable pellicle)技术,大受业界好评。


「我们只挑选最关键的部份来突破,」布令克得意地笑着。


二0一一年,ASML到台湾林口设立研发中心,并开始甄选台湾供应商。最后共有五家台厂入列,包括半导体设备厂帆宣,以及上银旗下的大银微系统。


帆宣南科厂内,无尘室里头组装中一个个窗型冷气大的机电模组,便是ASML当前主力机种,浸润式微影机台的部件之一。造价不下于一台进口车。


ASML对品质要求极为严苛,帆宣投入研发初期,长达三年时间,只有极少量订单。负责的主管苦不堪言,跑来问总经理林育业,「不要做了好不好?」


但通过考验之后,ASML就当帆宣是「自己人」。其他美国大厂要求代工厂「一颗螺丝钉都不能变」,奉行「开放式创新」的ASML态度截然不同,「他希望你改,还会邀请你参与设计,」林育业说。


林育业接受访问时,虽为能打入「高不可攀」的艾司摩尔供应链沾沾自喜,但他也一再认真地反问记者,「EUV是不是确定能量产?」


这充分反映当前业界的焦虑,不但担心EUV能否克服所有技术障碍,达到量产要求;另一派更担心即使EUV上阵,但高昂的生产、设计成本,会让IC设计厂望之却步。摩尔定律仍旧会因为经济投资报酬率下滑而止步。


面对种种质疑,温彼得依旧信心满满,要大家不要担心,「我们会搞定的!」


专访ASML执行长温彼得

政府角色在为企业制造胚胎


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XuS风险创投行于四月造访ASML荷兰总部的一个多月后,回到台湾,在竹科外围一栋办公大楼,专访ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)。以下是专访摘要:


问:之前摩尔定律差一点因经济理由走不去,但后来iPhone出现,推动业界对省电、高效制程的迫切需求,才逆转局势。造价高昂的EUV制程会不会遇到类似困境?


答:我有另一种看法,iPhone能出现,是因为浸润式微影技术(造就的新一代省电处理器、高密度记忆体),这是真的。


人们常问我,「Peter,下一个杀手级应用是什么?」


我都回答:我不知道。但我能确定一件事,当我们持续推动摩尔定律,让晶片性能大幅提升,自然有人会找出用途。世界上有很多聪明人,贾伯斯是其中一个。


现在新一波的浪潮是物联网,没错,物联网所用的感测器不需要太先进的制程。但它们背后的基础建设,更省电的伺服器、云端硬碟非常需要。


问:ASML出自飞利浦。而当年的飞利浦是有名的高度垂直整合,样样自己做。你们为何会走出「开放式创新」的研发模式?


答:只有一个字就是:穷困(poverty)。穷困激发创意。


1984年,我们怀抱着颠覆产业的梦想,从飞利浦独立出来。当时飞利浦经济情况很糟,正执行一个很大规模的裁员计划,没办法给我们经费。


那我们怎么办?我们去找政府争取经费,去找供应商,告诉他们我们的构想,问他们一起做好吗?我们跟你分享利润。我们因此打造一个很大的研发网路。


ASML的供应商不只供应零件,还供应知识。我们还有很多研发伙伴,包括荷兰的大学、欧洲研究机构。例如,我们跟距离不远的比利时校际微电子研究中心(IMEC)关系很密切。他们永远可以用很低的价格,拿到我们最新的机台;我们也可以借此提前了解下一代晶片技术的需求。


问:飞利浦虽然已解体,但却蕴育出ASML。请问荷兰是怎么做到的?可以给面临后PC时代的台湾一些建议吗?


答:长期对研发的持续投入非常重要,这也是我对荷兰政府的建议,因为我认为荷兰政府对于基础研究仍不够重视。


基础研究主要该由政府、企业支持的法人机构进行,它们负责制造源源不绝的「胚胎」,企业承接之后再将之扶养成人。


企业应该与研究机构密切合作,拿到胚胎之后就该专注。为什么ASML这么成功,因为我们专注。


当初飞利浦样样都做,最后解体了。这证明大型企业巨人的时代已经不合时宜了。未来的主流该是企业、研究机构分工的「开放式创新」。


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