POSS 笼状聚倍半硅氧烷 甲基丙烯酰氧丙基 上海杰化

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分类专栏： POSS 文章标签： 产品运营
于 2022-11-07 01:48:30 首次发布
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甲基丙烯酰氧丙基JH-P202

概述：

是一种有机、无机杂化的分子尺寸为纳米级的笼状聚倍半硅氧烷，

可用于胶黏剂或涂层体系，具有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。

物理指标：

外观 ：无色透明黏稠液体

黏度： 1800-2200cps

密度 ：1.20g/ml

分子量 ：

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杰化新材料
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POSS 笼状聚倍半硅氧烷 杰化新材料 甲基丙烯酰氧丙基 JH-P202
jiehuaxincailiao的博客
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可用于胶黏剂或涂层体系，具有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。有机无机杂化纳米笼状结构，具有低收缩率、高透过性（98%）、是一种有机、无机杂化的分子尺寸为纳米级的笼状聚倍半硅氧烷，乙烯基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂。用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善。室温密封保存，避免与强碱性物质接触。3、纳米二氧化硅的分散增溶剂。以上资料来自上海杰化新材料。高光泽、高硬度及高耐磨性。4、高透光硬化层（9H。
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可用于胶黏剂或涂层体系，具有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。有机无机杂化纳米笼状结构，具有低收缩率、高透过性（98%）、是一种有机、无机杂化的分子尺寸为纳米级的笼状聚倍半硅氧烷，用于高分辨率光刻胶制备，制作芯片等所需的精细线路。乙烯基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂。用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善。3、纳米二氧化硅的分散增溶剂。高光泽、高硬度及高耐磨性。4、高透光硬化层（9H。
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