自定义博客皮肤VIP专享

*博客头图:

格式为PNG、JPG,宽度*高度大于1920*100像素,不超过2MB,主视觉建议放在右侧,请参照线上博客头图

请上传大于1920*100像素的图片!

博客底图:

图片格式为PNG、JPG,不超过1MB,可上下左右平铺至整个背景

栏目图:

图片格式为PNG、JPG,图片宽度*高度为300*38像素,不超过0.5MB

主标题颜色:

RGB颜色,例如:#AFAFAF

Hover:

RGB颜色,例如:#AFAFAF

副标题颜色:

RGB颜色,例如:#AFAFAF

自定义博客皮肤

-+
  • 博客(2)
  • 收藏
  • 关注

原创 长鑫存储简介

1.(1)长鑫存储是一家一体化存储器制造公司,专注于动态随机存取存储芯片(DRAM)的设计、研发、生产和销售。长鑫存储的技术团队拥有丰富的技术研发经验和创新能力,已推出多款DRAM商用产品,广泛应用于移动终端、电脑、服务器、虚拟现实和物联网等领域。相较于上一代DDR3内存芯片,DDR4内存芯片拥有更快的数据传输速率、更稳定的性能和更低的功耗。长鑫存储自主研发的DDR4内存芯片能够满足市场需求,广泛应用于办公、居家、休闲娱乐等众多场景,为云服务、 物联网等多种设备和产品赋能,带给用户更加出众的使用体验。

2023-08-25 10:33:20 1008 1

原创 【深亚微米CMOS前段工艺制程】

2)形成Co-Salicide;,指在没有氧化物覆盖的衬底硅和多晶硅上形成金属硅化物(涉及PECVD淀积SiO2作为SAB,SAB光刻、刻蚀、去胶、清洗自然氧化层,PVD溅射Co和TiN,第一步Salicide RTA-1,Co和TiN选择性刻蚀,第二步Salicide RTA-2将高阻态Co2Si转化为低阻态Co2Si,淀积SiON),从而得到低阻的有源区和多晶硅。,与亚微米工艺类似,制备NW和PW的工艺,NMOS在PW中制备,PMOS在NW中制备,目的是形成PN结隔离,使器件间形成电性隔离;

2023-08-24 16:30:56 753 1

空空如也

空空如也

TA创建的收藏夹 TA关注的收藏夹

TA关注的人

提示
确定要删除当前文章?
取消 删除