钨酸铋量子点/纳米片修饰石墨相氮化碳(g-C3N4)(Bi2WO6/g-C3N4)/CdTe/SiO2/PMMA复合粒子应用

钨酸铋量子点/纳米片修饰石墨相氮化碳(g-C3N4)(Bi2WO6/g-C3N4)应用探究：

利用超声-水热法,使用油酸钠辅助合成钨酸铋(Bi2WO6)量子点/纳米片修饰的石墨相氮化碳(g-C3N4)(Bi2WO6/g-C3N4)复合剂.通过X射线粉末衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),傅里叶变换红外光谱(FT-IR),紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS),N2吸附-脱附等技术手段获得Bi2WO6/g-C3N4的组成,结构和光吸收性能,分析合成机理.以罗丹明B(Rh B)水溶液为模拟污染物.结果表明:g-C3N4和Bi2WO6的质量比为3:7的Bi2WO6/g-C3N4-30具有最有效的异质界面,电化学阻抗和光电流测试结果显示其光生载流子传输速率快,复合率低,可见光照射120 min对Rh B的降解率达到95. 8%;

小编推荐阅读-CdTe/SiO2/PMMA复合粒子的制备：

采用反向原子转移自由基法,制备了SiO2/PMMA复合粒子.用硅烷偶联剂γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷对纳米SiO2进行表面改性,通过亲水亲油性实验,确定了硅烷偶联剂的最佳用量(质量分数为10%).通过红外光谱和热重分析,证明聚甲基丙烯酸甲酯是通过化学键合接枝到纳米SiO2粒子表面.用透射电镜观察了纳米SiO2和复合粒子在乙醇中的分散情况,表明复合粒子的分散效果更好.

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瑞禧YWX.2022.10.26