【计算机视觉】前景蒙版（alpha matte）与掩膜（mask）

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（1）什么是掩膜（mask）?

数字图像处理中的掩膜的概念是借鉴于PCB制版的过程，在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图片“底片”称为掩膜（也称为“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。

光学图像处理中，掩膜可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩膜为二维矩阵数组，有时也用多值图像。数字图像处理中，图像掩膜主要用于：

1. 提取感兴趣区域（ROI，region of interest）,用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0。

2. 屏蔽作用，用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参