芯片制造与光刻机：Chip Fabrication and Lithography

最新推荐文章于 2022-10-08 11:41:37 发布
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分类专栏： 课程学习 文章标签： 制造
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1.概述芯片与光刻机

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2.详解芯片制造流程

设计模块是网上抄的！！
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3.现代发展成果

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咔叽布吉
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用_中科院上海光机所光刻机投影物镜热效应模型研究取得进展...
weixin_39747595的博客
11-24 1547
光刻机是集成电路制造的核心装备，其作用是将承载集成电路版图信息的掩模图形转移至硅片面的光刻胶内。光刻机工作过程中，照明系统输出的光照射到掩模上，未被阻挡的光携带掩模图形信息，经投影物镜汇聚后形成掩模图形的光学像。被光学像照射的光刻胶发生光化学反应，从而实现掩模图形的转移。投影物镜材料吸收光的能量并引起物镜内部温度变化的现象称为投影物镜热效应。光刻机工作时激光持续照射投影物镜，热量在投影物...
超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
05-21
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序，系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点，本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外，本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责，以及如何协调各方资源保证研发进度。
PCB技术中的lithography
12-09
lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；光刻胶层剥离；最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有UV、DUV、e-beam、x-r
超大规模集成电路与系统导论 PDF
04-06
免费上传 《超大规模集成电路与系统导论》 周润德译
硬件工程师学习英语必备
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qq_43481862的博客
04-29 1万+
1 - 英文电子专业词汇（硬件工程师学习英语必备） 1 backplane 背板 2 Band gap voltage reference 带隙电压参考 3 bench top supply 工作台电源 4 Block Diagram 方块图 5 Bode Plot 波特图 6 Bootstrap 自举 7 Bottom FET Bottom FET 8 bucket capacitor 桶形电...
收藏，半导体一些术语的中英文对照
06-25 3387
很多相关的技术术语都是用英文表述。且由于很多从业者都有海外经历，或者他们习惯于用英文表述相关的工艺和技术节点，那就导致很多的英文术语被翻译为中文之后，很多人不能对照得上，...
半导体器件应用基础：集成电路工艺简介 - 光刻.pdf
09-17
半导体器件应用基础：集成电路工艺简介 - 光刻.pdf
一些《集成电路与光刻机》笔记
weixin_43173278的博客
01-17 2115
一些《集成电路与光刻机》笔记
光刻工艺公开资料汇总：
u012750235的博客
02-13 2210
[1]韦亚一,超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M],科学出版社,2016 [2]王向朝,集成电路与光刻机[M],科学出版社,2020 [3]伍强,衍射极限附近的光刻工艺[M],清华大学出版社,2020 [4]马科斯.波恩,光学原理(光的传播、干涉和衍射的电磁理论)(第7版)[M],电子工业出版社,2016 [5]王向朝,光刻机像质检测技术(上下册)[M],科学出版社,2021 [6]李金龙,ArF浸没光刻双工件台运动模型研究[D],中国科学院大学,2013 [7]刘晓林,浸没式ArF光刻机物镜的光学设计
光刻机（NIKON）的设计与结构
01-27
光刻机（NIKON）的设计与结构
ASML lithography: 目前世界上最先进的光刻机
12-09
TWINSCAN:trade_mark: XT:1700iThe XT:1700i with ... This innovative lithography system leverages TWINSCAN dual stages and an advanced, in-line catadioptric lens to deliver unrivalled resolution, d
半导体制造-光刻-微影(Photo-Lithography)
12-09
原理即利用对紫外线敏感之聚合物，或所谓光阻（photo-resist）之受曝照与否，来定义该光阻在显影液（developer）中是否被蚀除，而最终留下与遮掩罩幕，即光罩（mask）相同或明暗互补之图形；相同者称之「正光阻」...
半导体制造过程中用到的光刻机照明系统
最新发布
11-03
1.光刻机的结构（一） 2.光刻机的结构（二） 3.照明系统的功能及结构 4.照明系统的六大特点 5.光源类型 6.光线收集系统 7.快门单元（一） 8.快门单元（二） 9.滤波器（一） 10.滤波器（二） 11.Sigma切换单元 12....
光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理
09-25
本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ，包括介绍芯片的制作过程以及原理，光刻机的使用说明以及原理等等
光刻气体：光刻机制造关键环节，产业格局解析.docx
09-30
光刻气体：光刻机制造关键环节，产业格局解析.docx
光刻技术详细介绍
m0_52555753的博客
10-08 3001
为什么俄罗斯的进展非常不顺利呢？因为俄罗斯的芯片技术，信息技术被锁死，最好的芯片加工能力大概是65nm，在这个前提下，西方就动用一切先进的侦察手段，使得战场对乌克兰透明，由此可以看出技术的发展是衡量一个国家的实力的重要标志华为地反制裁的措施？麒麟芯片作为世界上最好的芯片之一，生产不出来，华为投资一家芯片企业在深圳，初步实现28nm,这可以说是华为存活的必由之路，如果三两年之内可以实现芯片量产，那么等他库存的芯片耗完以后，就很难生存下来。
半导体概念整理
github_37462634的博客
08-06 2494
半导体专业名词
很全的电脑专业术语中英文对照
lqshma的专栏
06-12 1万+
一、港台术语与内地术语之对照由于港台的计算机发展相对快一些，许多人都去香港或台湾寻找资料，但是港台使用的电脑专业术语与内地不尽相同，你也许曾被这些东西弄得糊里糊涂的。 ---------------------------港台术语 内地术语  埠 接口  位元 位  讯号 信号  数码 数字 类比 模拟  高阶 高端  低阶 低端  时脉 时钟  频宽 带宽  光碟 光盘  磁碟 磁盘  硬碟 硬
lithography-100 型紫外光刻机使用规则
07-28
lithography-100型紫外光刻机使用规则包括以下几个方面的内容： 1. 操作环境：确保使用光刻机的实验室环境整洁、无尘，温度适宜，并且保持恒温、恒湿。 2. 机器启动与关闭：在使用光刻机之前，需要进行正确启动和关闭的步骤。启动前需要检查设备的电源和相关仪器是否正常，关闭时要按正确的顺序关机，防止损坏设备。 3. 样品准备：确保要进行光刻的样品的平整度和干净度。将样品固定在光刻机的台面上，并根据要求进行调节。 4. 曝光参数选择：根据要素图案的要求，选择合适的曝光参数，包括曝光时间、曝光能量等。这些参数会影响曝光的质量和准确性。 5. 探测器和控制系统：熟悉并掌握光刻机的探测器和控制系统的使用方法和原理，确保能够准确的检测和记录曝光过程中的各项参数。 6. 安全操作：使用光刻机时，要佩戴适当的个人防护装备，如手套和安全眼镜，确保自己的安全。并且要保持清洁，避免在操作时造成样品或者设备的损坏。 7. 维护和保养：定期对光刻机进行维护和保养，包括清洁和润滑。当发现机器有异常时，及时联系维修人员进行检修。 总的来说，使用lithography-100型紫外光刻机需要注意环境、启动与关闭、样品准备、曝光参数选择、探测器和控制系统、安全操作以及维护和保养等方面的规则。只有正确操作和维护，才能保证光刻机的正常运行并获得高质量的光刻结果。

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