他是全球光刻机领军人物，而且是华裔，但他从不跟中国大陆打交道

从默默无闻到行业巨头，他是如何改变光刻机格局的？

在当今高科技领域，芯片的重要性不言而喻，它已然成为大国之间激烈角逐的 “香饽饽”。而在芯片制造的复杂流程中，光刻机堪称关键核心设备，其重要性如同皇冠上的明珠。在光刻机领域，荷兰 ASML 公司、日本佳能以及尼康公司声名赫赫，呈现出三足鼎立的局面。不过，若要论及综合实力，荷兰 ASML 公司无疑独占鳌头。

大家都知道，美国常常试图在科技领域限制我们，其中重要的一招便是勒令 ASML 公司禁止向我们提供最先进的 EUV 光刻机。但鲜有人知的是，ASML 公司的 EUV 浸润式光刻机背后，有一位关键的华裔技术专家。

他叫林本坚，出生于越南，祖籍广东潮汕，在中国台湾长大。他是全球光刻机领域的领军人物，被誉为 “浸润式光刻之父”。接下来，就让我们一同走进他研发浸润式光刻机的传奇故事。

根据著名的摩尔定律，在成本不变的情况下，每 18 个月到 24 个月，芯片上可容纳的晶体管数量便会翻倍，性能也随之大幅提升。然而，到了 20 世纪 90 年代，这一定律似乎不再灵验。当时，尽管美国和日本有众多光刻机企业，但都陷入了发展困境。究其原因，光刻机的光源波长始终卡在 193nm，难以再进一步降低。

要知道，光源波长与芯片制程紧密相关，波长越短，芯片制程就越先进。彼时，日本尼康公司力推 157 纳米的 F2 激光技术，而由美国牵头的 EUV 联盟则倡导采用十几纳米的极紫外光技术。但遗憾的是，当时的光源技术始终无法突破，根本无法满足这两种方案的要求。就这样，全世界的半导体行业陷入了发展停滞。

就在这个关键时刻，林本坚出现了。当时还在台积电工作的他，提出了一个极具创新性的解决方案。他大胆设想，在镜头和硅片之间添加一层水，利用光在水中的折射原理，将波长降为 132nm，这样一来，投射到硅片上的图案分辨率会更加清晰，晶片密度也能进一步提高。经过反复实验验证，林本坚证实了这个方法的可行性，随后满怀信心地拿着方案与美日知名半导体公司进行沟通。

然而，理想很丰满，现实却很残酷。美日的光刻机巨头们对林本坚的方案嗤之以鼻，认为这种做法是 “投机取巧”。他们担心在镜头和硅片之间加水会产生水泡，进而造成污染，破坏芯片生产所必需的无污染环境，最终导致良品率大幅下降。这些企业巨头们固执地认为，只有专注于研究如何通过光源技术降低波长才是正道，林本坚的方法太过幼稚，根本不值得考虑。

遭到拒绝的林本坚并没有气馁，他不断对方案进行优化和改进，多次上门推销自己的技术。但这不仅没有赢得美日企业的认可，反而让他们不胜其烦，甚至直接给台积电 CEO 写信，要求他管好自己的下属，别再来打扰他们。

无奈之下，林本坚将目光投向了当时还籍籍无名的荷兰 ASML 公司。那时的 ASML 公司规模极小，整个公司也就 30 人左右，老板甚至身兼保安和出纳等数职，与尼康相比，简直是天壤之别。但令人意想不到的是，ASML 公司对林本坚的方案十分认可，并投入资金支持他开展研发工作。

林本坚也没有辜负 ASML 公司的信任，短短不到一年时间，就成功研发出了 132nm 的浸润式光刻机。ASML 公司借此机会实现了华丽转身，一举打破了日本尼康在行业内的垄断地位，成为了光刻机领域的新霸主。后来，尼康虽然也采用相同原理研发出了浸润式光刻机，但终究是后来者，始终被 ASML 公司压制。

林本坚自此声名远扬，但令人疑惑的是，这样一位成就斐然的华裔技术专家，却从未与中国大陆有过业务往来，这是为什么呢？

从网易新闻对林本坚的采访中，我们或许能找到一些答案。当被问及对中国大陆的看法时，林本坚表示：“我认为大陆有很好的先天条件，一是有市场，二是有人才。这些都有了，但是你需要让他们觉得半导体很重要，现在的年轻人要做很多别的事情，这些都是要去努力的。”

从他的回答中可以看出，虽然中国大陆具备发展半导体产业的巨大潜力，但目前新一代年轻人对半导体产业的重要性认识不足，注意力被其他事物吸引。所以，中国大陆若想在半导体领域取得更大发展，还需要克服一些障碍。

相较于中国大陆，中国台湾在半导体行业的重视程度和人才待遇方面可能更具优势，这或许就是林本坚没有选择来中国大陆发展的原因。