不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒制备及应用

以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8mm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度低(0.740nm),采用粒度小于或大于8mm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有好的抛光效果.
【名 称】纳米CeO2
【特 点】超小纳米片，生物相容性好，具有模拟过氧化氢酶和超氧化物歧化酶活性。
【用 途】可用于抗氧化治疗、抗炎治疗、缓解乏氧环境等。
【技术参数】TEM 尺寸3 nm
【包装形式】水分散液

研究纳米CeO2在不同条件下水相介质中的分散行为.结果表明: 纳米CeO2 在水相介质中的润湿与分散受体系pH值的影响很大, 与Zeta电位有相当好的一致关系, 其分散机理主要是双电层静电排斥作用; 纳米CeO2的等电点(pHPZC)为6.8左右; 纳米CeO2颗粒在酸性水介质中表面带正电, 在碱性水介质中表面带负电, Zeta电位分别在pH值为4和11左右时较高, 相应润湿性和分散性较好; 随机械搅拌速率和时间的增加, 纳米CeO2的分散性增强; 超声波对纳米CeO2的分散作用明显优于机械搅拌, 20 kHz频率下超声波分散1 min便能显著改善纳米CeO2的分散状态; 加入六偏磷酸钠(SHP)作为分散剂将改变纳米CeO2颗粒表面电性, 使其带负电, Zeta电位随SHP浓度增加而增大, 起增强双电层的静电排斥作用; 当SHP浓度达225 mg·L-1时, Zeta电位趋于稳定, 并使纳米CeO2在广泛的pH值范围内获得较高的Zeta电位和很好的分散效果, 从而降低了体系pH值的影响.