EDA技术 一:EDA技术概况及大规模可编程逻辑器件

标题第一章:EDA概况

1.EDA发展阶段

1.早期电子CAD阶段
20世纪70年代,EDA技术发展初期,利用计算机,二维图形编辑与分析的CAD工具,完成布局布线等高度重复性的繁杂工作。
2.20世纪80年代,出现了低密度的可编程逻辑器件(PAL_Programmable Array Logic和GAL_Generic Array Logic),相应的EDA开发工具主要解决电路设计没有完成之前的功能检测等问题。
3.电子设计自动化(EDA)阶段
20世纪90年代,可编程逻辑器件迅速发展,出现功能强大的全线EDA工具。具有较强抽象描述能力的硬件描述语言(VHDL,Verilog HDL)及高性能综合工具的使用,使过去单功能电子产品开发转向系统级电子产品开发 (SOC_System On a Chip:单片系统,或片上系统集成)
开始实现“概念驱动工程”(Concept Driver Engineering CDE)

EDA的定义

广义范围:
半导体工艺设计自动化
可编程器件设计自动化
电子系统设计自动化
印刷电路板设计自动化
仿真与测试,故障诊断自动化
形式验证自动化
狭义范围:
大规模可编程逻辑器件为设计载体,以硬件描述语言为系统逻辑描述的主要表达方式,以计算

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超大规模集成电路(VLSI)设计是指设计和制造具有超过1万个晶体管的集成电路。这些芯片通常用于高性能计算机、移动设备和其他数字电子产品中。以下是VLSI设计及EDA技术的一些复习要点: 1. VLSI设计流程:VLSI设计流程包括需求分析、体系结构设计、逻辑设计、物理设计、验证和测试。其中,逻辑设计和物理设计是VLSI设计的核心。 2. CMOS工艺:CMOS(互补金属氧化物半导体)工艺是VLSI设计中常用的工艺。它包括几个步骤,如沉积、蚀刻、光刻和离子注入等。 3. 逻辑门:逻辑门是VLSI设计中常用的基本单元。包括与门、或门、非门和异或门等,这些门可以组合成更复杂的电路。 4. 物理设计:物理设计是指将逻辑电路映射到物理实现。它包括布局设计和布线设计两个阶段。 5. 激光曝光法:激光曝光法是一种物理设计工具,它使用激光来制作芯片的掩模。 6. 仿真:仿真是验证电路设计的重要步骤。它可以使用数字仿真或模拟仿真来模拟电路行为,以确保电路的正确性。 7. EDA工具:EDA(电子设计自动化)工具是VLSI设计中常用的软件工具。包括逻辑合成、布局设计、布线设计和仿真等工具。 8. 特殊电路:VLSI设计中还涉及到一些特殊电路,如时钟电路、存储器电路、处理器电路等。这些电路通常具有更高的复杂性和更高的性能要求。 以上是VLSI设计及EDA技术的一些复习要点,希望对你有所帮助。

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