1.2.1 PN结
大体意义上讲,PN结的定义为:采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体基片上,一般半导体的材料选择为硅或者锗,在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结。
具体介绍PN结的形成大体分为三步,首先扩散运动,P区的空穴浓度远大于N区的自由电子浓度,因此,P区的空穴必然向N区扩散,并与N区中的自由电子复合而消失;同样,N区的自由电子必然向P区漂移,并与P区中的空穴复合而消失。其次是空间电荷区的产生,扩散运动导致了P区一侧失去空穴而留下负离子,N区一侧失去电子而留下正离子,这些不能移动的带电离子称为空间电荷,相应地这个区域称为空间电荷区,最后由于有正离子和负离子,这样在空间电荷区内就会产生一个内电场,内电场的产生让多子的扩散和少子的漂移达到了一个动态平衡,最后形成了PN结。如下图PN结的形成所示。
早期的二极管也就是半导体的制作工艺是将两个独立的掺杂材料放在一起高温熔接而成,现在的二极管和原来相比只是制作工艺更加精确,让两个相邻的不同掺杂区域组合构成,一个区域