【UV打印机】墨路之过滤器

博客介绍了多种墨水过滤器,包括弯头囊式、柱型、直头囊式和蝶形过滤器。这些过滤器主要用于过滤墨水中杂质,避免喷头堵塞。采用高密度进口铝网,部分过滤精度达5μm或10μm,使用耐腐蚀材料,适用于印刷、水处理等设备。

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00. 目录

01. 概述

过滤器主要目的是过滤墨水中的杂质,避免堵塞喷头。

02. 弯头囊式过滤器

产品名称:弯头PALL过滤器/囊式过滤器

产品规格:过滤器外形总长65mm 过滤器两端接口接6*4墨管即接口外径6mm 内径4mm)

应用场景

(1) 印刷行业——喷绘机、喷码机等

(2) 水处理设备、净化设备、过滤机、清洗设备

产品说明

(1)采用高密度进口铝网,过滤精度达到5μm

(2)管式采用新型的耐腐蚀工程塑料和橡胶材料,具备耐油、耐酸、耐碱、耐腐蚀化学品等性能(

(3)使用时固液分离、过滤液体 中微小颗粒起到保护喷头的作用

在这里插入图片描述

03. 柱型墨水过滤器

产品名称:柱型过滤器

产品规格:

(1)短款白色6cm(过滤器接口可接直径53mm和64mm两种)

(2)短款黑色6cm (过滤器接口可接直径53mm 和64mm 两种)

(3)长款白色8cm (过滤器接口可接直径53mm 和64mm 两种)

(4)长款黑色8cm (过滤器接口可接直径53mm 和64mm 两种)

产品说明

(1)采用高密度进口铝网,过滤精度达到5μm 10μm

(2) 管式采用新型的耐腐蚀工程塑料和橡胶材料,具备耐油、耐酸、耐 碱、耐腐蚀化学品等性能

(3)使用时固液分离、过滤液体中微小颗 粒起到保护喷头的作用

应用场景:绘机,打印机、平板机,喷码机,使用各种墨水,溶济性,水性,弱溶济性,及UV墨水等机器,过滤杂质,用以保护喷头,延长喷头寿命。

在这里插入图片描述

04. 直头囊式过滤器

产品名称:直头PALL过滤器/囊式过滤器

产品规格:过滤器两端接6*4墨管。(即两端接墨管口径为:外径6mm 内径4mm)

产品精度:采用进口滤网过滤精度达到5μm
在这里插入图片描述

05. 蝶形过滤器

产品名称:蝶形过滤器

产品规格:蝶片直径4.5cm 有黑色、白色两种颜色。接口可接内直径6*4mm、5*3mm和4*3mm管

过滤精度:10u 20u

产品说明:此款蝶形过滤器,高品质,耐腐蚀。
在这里插入图片描述

06. 附录

【资源说明】 1.项目代码功能经验证ok,确保稳定可靠运行。欢迎下载使用!在使用过程中,如有问题或建议,请及时私信沟通。 2.主要针对各个计算机相关专业,包括计科、信息安全、数据科学与大数据技术、人工智能、通信、物联网等领域的在校学生、专业教师或企业员工使用。 3.项目具有丰富的拓展空间,不仅可作为入门进阶,也可直接作为毕设、课程设计、大作业、初期项目立项演示等用途。 4.当然也鼓励大家基于此进行二次开发。 5.期待你能在项目中找到乐趣和灵感,也欢迎你的分享和反馈! 本文介绍了基于QEM(Quadric Error Metrics,二次误差度量)的优化网格简化算法的C和C++实现源码及其相关文档。这一算法主要应用于计算机图形学领域,用于优化三维模型的多边形数量,使之在保持原有模型特征的前提下实现简化。简化的目的是为了提高渲染速度,减少计算资源消耗,以及便于网络传输等。 本项目的核心是网格简化算法的实现,而QEM作为该算法的核心,是一种衡量简化误差的数学方法。通过计算每个顶点的二次误差矩阵来评估简化操作的误差,并以此来指导网格简化过程。QEM算法因其高效性和准确性在计算机图形学中广泛应用,尤其在实时渲染和三维打印领域。 项目代码包含C和C++两种语言版本,这意味着它可以在多种开发环境中运行,增加了其适用范围。对于计算机相关专业的学生、教师和行业从业者来说,这个项目提供了丰富的学习和实践机会。无论是作为学习编程的入门材料,还是作为深入研究计算机图形学的项目,该项目都具有实用价值。 此外,项目包含的论文文档为理解网格简化算法提供了理论基础。论文详细介绍了QEM算法的原理、实施步骤以及与其他算法的对比分析。这不仅有助于加深对算法的理解,也为那些希望将算法应用于自己研究领域的人员提供了参考资料。 资源说明文档强调了项目的稳定性和可靠性,并鼓励用户在使用过程中提出问题或建议,以便不断地优化和完善项目。文档还提醒用户注意查看,以获取使用该项目的所有必要信息。 项目的文件名称列表中包含了加水印的论文文档、资源说明文件和实际的项目代码目录,后者位于名为Mesh-Simplification-master的目录下。用户可以将这些资源用于多种教学和研究目的,包括课程设计、毕业设计、项目立项演示等。 这个项目是一个宝贵的资源,它不仅提供了一个成熟的技术实现,而且为进一步的研究和学习提供了坚实的基础。它鼓励用户探索和扩展,以期在计算机图形学领域中取得更深入的研究成果。
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