凸透镜成像动态演示_最薄光学透镜，仅厚7埃，可实现多焦距成像

一、导读

近日，由澳大利亚斯威本科技大学，莫纳什大学，和新加坡国立大学联合的一组科学团队，创造性地开发了一种利用飞秒激光对纳米粒子进行图案化的方法，从而可以在单层二维过渡金属二卤化物(TMDC)材料上制造高性能透镜，该透镜具有亚波长的分辨率和31％的聚焦率。这一研究成果为纳米光学和集成光学应用的超薄光学元件奠定了基础。

该文章于8月11日，以题目“Diffraction-limited imaging with monolayer 2D material-basedultrathin flat lenses”发表在国产期刊Light：Science and Applications上。

二、研究背景

镜头是日常生活中最常用的光学组件之一，包括眼镜，显微物镜，放大镜和相机镜头。常规的镜片基于光的折射原理，使用不同的材料，球形表面和空间位置来实现对光的控制。传统镜片的制造包括材料选择，切割，粗磨，精磨，抛光和测试的过程。为了使包括色差，球面像差和像散的像差最小化，有必要堆叠多层透镜以形成复合透镜，这导致当前相机设备的复杂性，且十分笨重。

而具有高效光调制能力的超薄平面透镜是实现光学器件的微型化重要元器件。近年来，以金属材料超构表面为代表的新型微纳结构在平面透镜应用中展现出巨大的潜力。不同于传统的透镜，超薄型平板透镜使用纳米结构来调制光。通过控制每个纳米元件的光学特性和空间位置，可以实现消除色差，无像差聚焦，高空间分辨率，和特殊的聚焦强度分布。然而，当材料厚度减小到亚波长尺度时，基于材料的固有折射率和吸收的不足的相位或幅度调制，导致较差的透镜性能。

与传统半导体材料相比，二维过渡金属二卤化物(TMDC)材料由于具有超长的载流子扩散距离、可调的带隙和宽波段吸收、高光吸收系数、高荧光量子产率以及低加工成本等优势，在光电子器件领域具有非常广泛的应用前景。特别重要的是，1)TMDC材料折射率相对较高，可与环境形成较大的反射对比，这为光电子器件突破传统的衍射极限，实现亚波长调控提供可能；2)TMDC材料的光学性能可以通过组分变换或者电场操纵下的离子移动而进行精确调控，这为光子元器件光学参数的动态调控提供了一种全新的方法。

三、创新研究

尽管以前已经证明了由多层TMDC制成的透镜，但当其厚度减小到亚纳米级时，它们的相位或振幅调制就不足导致聚焦效率低于1％。该研究团队发现，可以通过使用飞秒激光束与单层TMDC材料相互作用来生成纳米颗粒，这与连续波激光器产生的过程明显不同。当激光脉冲太短以至于整个材料在激光处理后仍保持冷态时，纳米颗粒可以牢固地附着在基材上(如图1所示)。纳米颗粒显示出很强的散射，以调节光的振幅。因此，由纳米颗粒制成的透镜可以提供亚波长分辨率和高效率，这使得该团队可以通过使用透镜演示衍射受限的成像。

图1. 飞秒激光制造单层TMDC透镜的示意图。插图：(i)单层TMDC单晶的AFM图像，以及(ii)飞秒激光诱导的MOx纳米粒子生成示意图。

如图2所示，研究者还分别测试了不同TMDC材料所制备的透镜的光学性能，及其焦距分布。

图2. 实验测量的不同单层TMDC透镜的焦距分布：(a)，(c)MoS₂，(b)，(d)WS₂，(e)，(g)PtSe₂和(f)，(h)PtS₂。插图：器件光学显微图像，其中比例尺为5μm。

由于成像是镜头的基本功能之一，因此我们进一步验证了基于TMDC薄膜的镜头的成像能力(见图3)。成像过程的示意图在图3a中示出。利用PtS₂膜制备的直径为300μm的透镜(图3b)，所成的图像通过显微成像系统进一步放大，然后使用电荷耦合器件(CCD)相机进行采集。

图3.(a)使用单层TMDC透镜的衍射极限成像的示意图。(b) 大型单层TMDC透镜(直径300μm，f 1 =300μm)的光学显微图像。(c)“F”字样的光学显微图像。(d) “F”字样的二阶图像。(e)“F”字样的一阶图像。(f) “USAF”字样的光学显微图像。(g)，(h)USAF标准板的二阶和一阶图像。(d)，(e)，(g)，(h)中的比例尺为10μm。

四、应用与展望

单层是材料的最薄形式，这是最终的物理厚度限制。通过使用单层透镜制造，本研究中所展示的工艺消耗的材料最少，达到了理论极限。更重要的是，飞秒激光制造技术是一个相对简单的加工过程，无需高真空或特殊环境的要求，因此它提供了制造超薄平面透镜的最简单方法。最重要的是，该透镜可以容易地集成到任何光子或微流体装置中，从而用于广泛的应用中。另外，他们设计的透镜可以在不同的焦平面上以不同的放大倍率找到图像。这种机制可以很容易地用于开发为成像设备上的光学变焦镜头。目前，具有不同焦距的镜头是通过调节不同镜头的组合来实现的，但是他们的镜头只需一种设计就可以实现不同的变焦率。