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瓷砖抛 光过程 建模与仿真
朱 成 就
(广 东工业大学 机 电工程 学院, 广东广州 )
摘要 :瓷砖的抛磨影响 因素众 多 ,实际磨削加工时容易出现漏抛 、返抛现象 。对陶瓷抛光机磨头进行运动学分析 ,并基于不 同
粒度号 的磨 粒在一定压力下的加工深度模型 ,探讨抛光机磨 头转 速 、横梁摆动频率 、传送速度对瓷砖抛光加工表 面均匀性 的影
响,然 后结合 磨削机理使 用 对陶瓷抛光过程进行仿真 。最后使用多组不 同的运动参数进行模拟试验 ,分析不 同条
件下抛光 的均匀性影 响。
关键词 :陶瓷抛光机 ;均匀性 ;运 动参 数;仿 真
中图分类号 :
文献标识码 : 文章编 号:()
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引 言 为 达 到 表 面平 整 、光 亮 、色 泽 鲜 明等 生 产 要
求 ,瓷砖刮平工序后需要进入抛光机抛磨 。在实 际生产中 ,抛光工艺复杂 ,影响抛光质量 的因素 众多 ,其 中抛光机的运动参数对抛光制 品表面的 均 匀性 影 响 规律 是 国内外 研 究 的热 点 问题 。 等建 立 了磨粒 在抛 磨 过程 的运 动学 方 程 ,分 析 运 动 参 数 对 加 工 过 程 的影 响 。和 通 过 建立瓷砖 表面抛磨的时间模型 ,分析瓷砖横 向与 机 器摆 动 的联 合 运 动 对加 工 表 面