欧界报道:
近日,有媒体曝光了世界光刻机巨头ASML公司位于荷兰费尔德霍芬的生产总部无尘车间的内部生产环境。据了解,全球性能最优的芯片制造核心设备--EUV极紫外光刻机目前只有荷兰ASML公司有能力出产。在半导体制造工艺中,光刻机是必不可少的设备,几乎所有工艺都会用上光刻机,技术含量非常高,成本也十分昂贵。
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半导体芯片的生产有着十分复杂的流程,而光刻则是其中最关键的步骤。光刻技术的精密程度极高,它将紫外光作为图像数据的运载体,利用光致抗原理,通过蚀刻制剂对图像数据进行微处理,最终通过变形处理转移至晶片或者介质层上。光刻的整个过程分为光复制和光刻蚀两个主要部分,其中,光复制技术对应的就是光刻机。光刻机具有对光源能量、光波形状进行控制的能力,它通过控制光束进行晶圆的线路图成像。目前全球流通的先进芯片具有30多层,工艺难度高,需要使用更先进的光刻机进行制造。
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EUV光刻机则是目前技术最先进的光刻机。ASML公司从1999年开始进行EUV光刻机的研制工作,并于2010年成功制造出全球首台EUV原型机,但这台原型机具有工作效果不稳定、安全性不足等缺陷,直到2016年才推出修改版正式出品市售。EUV光刻机对光源的功率范围、光学透镜的精度和反射镜系统的适配性都具有很高的要求,而配套技术的发展速度缓慢,这也是EUV光刻机迟迟造不出来的原因之一。现如今市面上的品牌主流旗舰机的芯片制造过程,也都有EUV光刻技术的参与。
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在当今45nm以下的高精度光刻机市场中,ASML公司占据了八成的市场份额。EUV光刻机无尘车间对生产环境的管控十分严格,对空气污染源的控制精度达到了皮肤微颗粒级,空气净化度是外界的1000倍,对于空气温度和湿度也有着苛刻的要求。ASML公司目前在荷兰、美国、韩国和台湾地区都建造了无尘车间。装配完成的一台完整的EUV光刻机重量超过100吨,需要配备六架飞机进行运输工作。
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目前中国市场缺少完整的半导体产业生态链,而海思和中芯国际与世界顶尖工艺水准还存在着明显的差距。上海微电子装备也仅有能力生产封装光刻机和LED光刻机,技术层面也还停留在90nm层面。但中国企业也在努力进行科技研发,相信在不久的将来,中国也能拥有属于自己的半导体产业生态链。
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