本文详细介绍了PDMS软模板在微纳米结构复制中的应用，包括材料设备需求、表面处理、混合/除气、浇铸/旋涂、烘焙–固化等关键步骤。PDMS因其在微流控领域的广泛使用而备受关注，但要注意其在200nm以下结构复制的局限性。了解正确的翻模工艺对于微纳米结构的复制至关重要。
PDMS是微纳、材料、生物、微流控领域中很用的材料之一。我们前面介绍过光刻和纳米压印的关系，其中PDMS软模板在纳米压印中非常实用，另外，PDMS翻制微流控芯片具有实验简单、精度高制作快捷等优点广泛应用于科学研究中。简单来说这些过程的核心就是PDMS倒模，即使用光刻和刻蚀获得的微纳米结构硬模板，再使用PDMS复制出来对应的结构进行应用的过程。下面我们将详细介绍一下种PDMS倒模过程。
材料设备需求
基本工具：采购产品安全眼镜，手套，镊子，培养皿，移液管，勺子，杯子，刀片，手术刀，铝箔。
设备需求：通风橱，高精度天平，机械搅拌机，真空干燥机，匀胶机，手动打孔机，双目显微镜，烘箱/热板，氧气等离子体。
基本材料：Sylgard 184硅基，Sylgard固化剂，硅烷化剂(TMCS:三甲基氯硅烷，sigma公司33014)。
注意：请在使用之前仔细阅读上述材料的安全说明和操作手册，然后进行规范操作。
一般流程
PDMS成型的第一步是设计模具并制作硬模板。通常的母膜有：刻蚀后的硅模板、石英模板、使用LIGA工艺制成的金属模板甚至是SU-8结构样品。这个过程是非常常见
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