各向异性晶体中Orowan机制

研究背景

在最近的一项研究中，Bacon、Kocks和Scattergood(1973)研究了位错自相互作用在各向同性晶体中的Orowan机制的影响。这些作者使用了一种自应力方法来获得位错的静态平衡构型，但他们的方法不允许考虑弹性各向异性。在本文报告的工作中，自应力方法已被修改和扩展，以便可以同时考虑到位错自相互作用和弹性各向异性的影响，并重新检查了Orowan机制，目的是考虑到综合效应。

研究主旨

本文研究了位错绕过各向异性晶体中不可穿透障碍物的Orowan机制，采用自应力方法考虑了晶体的弹性各向异性和位错自相互作用。研究揭示了位错环形状受各向异性和自相互作用的显著影响，特别是位错分支之间的平行性。通过引入调和平均的对数参数，该参数是障碍物大小和间距的函数，可以很好地描述位错环的形状变化。此外，研究还发现，当障碍物尺寸相对于间距减小时，位错的弓出受到抑制，这表明了自相互作用的重要作用。

研究特点

通过自应力方法获得了各种晶体中位错绕过不可穿透圆形障碍物周期行的静态平衡构型，该方法考虑了晶体的弹性各向异性和位错自相互作用。从结果中得出一个关联，将Orowan应力值与障碍物尺寸和间距相关联。这个关联需要两个参数来解释各向异性，它们表现为适当定义的各向异性剪切模量和泊松比。自相互作用由一个对数参数表示，它是障碍物大小和间距的调和平均值，独立于各向异性。

文章出处 各向异性晶体中Orowan机制