超纯水系统中硼离子去除技术原理

    硼在元素周期表里面是五号元素，是IIIA族中唯一 一个非金属元素。它是制造P型半导体的主要

掺杂剂，基材中硼的含量直接影响半导体的极限电压，因此要严格控制基材中硼的含量。在半导体

制造的过程中，水、气、化直接跟产品接触，且绝大部分的工艺都跟超纯水有关系，因此超纯水的

品质尤为重要。如果超纯水中硼含量得不到有效控制，基材里的硼含量就没办法控制。

   硼在浓度比较低的时候，在水里主要是以硼酸或者是硼酸根的形式存在，两者的比例随pH值变化

而变化，当PH值超过11的时候，主要是以硼酸根形式存在；如果PH值小于7，主要以硼酸形式存

在。硼酸的电离常数只有5.8 x 10-10，极不容易电离。因此，硼酸是弱酸，酸性非常弱。在常规的

水处理流程中，硼酸比较难去除。

   下图是随着产水量的不断增加，混床的穿透曲线图，其中蓝色曲线代表产水电阻率，品红色曲线

代表产水中硼离子含量，黑色曲线代表产水中二氧化硅含量。从曲线中可以看出，累计产水约3.1

百万加仑时，产水中硼离子含量开始上升；累计产水约5.1百万加仑时，产水中二氧化硅含量开始

上升；累计产水约5.3百万加仑时，产水电阻率开始下降。因此表明混床运行过程中，硼离子是最

早穿透的阴离子。从曲线还可以看出，一旦硼离子开始泄露，产水中硼离子的含量会急剧升高，甚

至超过混床进水中的硼离子含量，这是因为原本吸附在树脂上面的硼，会被其他的阴离子置换出

来。如果我们仅用产水电阻率来判断混床是否失效需要再生，在混床运行后期，产