本征硅中自由电子和空穴浓度

公式

n i 2 = B T 3 e − E G / k T n_i^2=BT^3e^{-E_G/kT} ni2=BT3eEG/kT

n i n_i ni为本征硅中自由电子和空穴的浓度

B为与材料相关的参数,对于硅来说为 5.4 ∗ 1 0 31 5.4*10^{31} 5.41031

E G E_G EG为能帯隙能量(Bandgap Energy),为破坏共价键,让一个电子从原子挣脱成为可传导电流的自由电子所需要的能量。对于硅为1.12eV,对于锗为0.6eV,对于钻石为2.5eV。eV表示在1V的电压差下取一个电子所需要的能量。

k为玻尔兹曼常量,值为 8.62 ∗ 1 0 − 5 e V / K 8.62*10^{-5}eV/K 8.62105eV/K

室温下(300K), n i = 1.5 ∗ 1 0 10 载流子 / c m 3 n_i=1.5*10^{10}载流子/cm^3 ni=1.51010载流子/cm3,硅晶体大约有 5 ∗ 1 0 22 原子 / c m 3 5*10^{22}原子/cm^3 51022原子/cm3,因此室温下只有十亿分之一的原子被电离。

绘图

import math
import numpy as np
import matplotlib.pyplot as plt
B=5.4e31
T=np.linspace(1,1000,1000)
Eg=1.12
k=8.62e-5
ni=np.zeros((1000,1))
for i in range(0,len(T)):
    ni[i]=math.sqrt(B*T[i]**3*math.exp(-Eg/k/T[i]))
plt.plot(T,ni)
print(ni[299])

本征硅中自由电子和空穴浓度随温度变化关系

References

[1]AdelS.Sedra, KennethC.Smith, Sedra, Smith, 周玲玲, & 蒋乐天等. (2006). 微电子电路:第5版. 电子工业出版社.

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