光隔离器详解

互易器件和非互易器件

     连接器、 耦合器等大多数无源器件的输入和输出端是可以互换的, 称之为互易器件。

     然而光通信系统也需要非互易器件, 如光隔离器。光隔离器是一种只允许单方向传输光的器件。

     某些光器件特别是激光器和光放大器 对于从连接器、 接头、 调制器或滤波器反射回来的光非常敏感。因此通常要在最靠近这种光器件的输出端放置光隔离器, 以消除反射光的影响, 使系统工作稳定。

     对光隔离器的要求是隔离度大、 插入损耗小、 饱和磁场低和价格便宜。

磁光块状光隔离器

    光通信用的隔离器几乎都用法拉第磁光效应原理制成;

    当平面偏振光沿着磁场方向入射到非旋光材料时, 光偏振面将旋转角度θ;如果反射光再一次通过法拉第介质, 则旋转角度增加到2θ。

隔离器

     用法拉第磁光效应原理制成

     光通信用的隔离器几乎都用法拉第磁光效应原理制成。 当平面偏振光沿着磁场方向入射到非旋光材料时,光偏振面将旋转角度θ, 如果反射光再一次通过法拉第光偏振面将旋转角度θ, 如果反射光再 次通过法拉第介质, 则旋转角度增加到 2θ。 角度θ可用下式表示:θ=pHL

    式中p是材料的 Verdet 常数, 表示单位磁场强度使光偏振面旋转的角度

隔离器工作原理

     起偏器 P 使入射光的垂直偏振分量通过调整加在法拉第介质的磁场强度, 使偏振面旋转45°, 然后通过检偏器A。反射光返回时, 通过法拉第介质又一次旋转45°,正好和入射光偏振面正交, 因此不会使入射光受到影响, 等于把入射光和反射光相互隔离开来。

磁光波导光隔离器

    光纤通信发展的趋势是将光源、 光放大器、 光调制器和探测器等光器件集成在一起。而光隔离器在这个集成器件中是必不可少的。虽然块状自由空间光隔离器尺寸小, 隔离度大(>50 dB), 插入损耗也小(<0.1 dB), 但是这种基于法拉第旋转器和线性偏振片的隔离器不和基于InP的半导体LD兼容, 所以不能集成在一起。所以科学家们正在开发基于平面集成光路(PIC) 的磁光波导器件。

磁光波导器件

    基于PIC的磁光波导器件具有非互易的特点, 成本低, 体积小, 稳定性好, 能与其他器件在同一个基板上集成,适合大批量生产。

    随着研究的深入和工艺的改进, 它的隔离度会提高, 插入损耗也会降低, 相信不久的将来一定会从实验室进入市场。

集成光隔离器基本工作原理

    集成光隔离器基本工作原理是基于YIG磁光薄膜的磁光法拉第效应;按YIG磁光薄膜磁化方向的不同, 光隔离器可分为纵向型和横向型两类:

    纵向型是外加磁场方向平行于光的传输方向;

    横向型是外加磁场方向垂直于光的传输方向。

磁光波导隔离器分类

     根据目前已报道的磁光波导隔离器, 按其工作原理的不同可分为:

     模式 (TE/TM) 转换型;

     非互易损耗(SOA) 型;

     非互易相移(MZI) 型。

 模式转换型波导光隔离器

    利用半漏泄结构波导制作的隔离器, 其突出优点在于可自动满足相位匹配的要求。

    它是在YIG波导上覆盖一层LiNbO3晶体, 而且晶轴在波导平面内处于倾斜状态。在这种结构中, 非互易变换与各向异性介质所产生的互易变换相互抵消, 从而使得正向传输时, 入射波能够在不发生变换的情况下直接通过波导。而对于反向光, 非互易变换与各向异性介质所产生的互易变换是相加的, 因而发生模式变换, TM模转换为TE高阶模或辐射模而截至, 从而实现隔离反向光的功能。

非互易损耗 (SOA) 型波导光隔离器

    对于TM波导传输模式表现出一种非互易特性, 这是因为前向向和后向传输的TM模式光在磁化的金属接触层表现出不同的折射率, 导致波导TM模的色散与传输方向有关;其结果是波导TM模的有效吸收系数和有效折射率变得与方向有关。

    因此, 适当的给半导体光放大器SOA注入电流, 对正向传输的光通过, 而对反向传输的光衰减, 起到光隔离的作用。基于铁磁薄膜 作包层的半导体光放大器 (SOA)原理;磁场方向与光的传输方向垂直, 它是横向型光隔离器;

集成了 LD的非互易损耗型波导光隔离器

    该芯片器件包括有源区长0.25 mm的DFB LD;和0.75 mm长的半导体有源波导光隔离器;该隔离器原理是基于在有铁磁材料的半导体光放大器(SOA) 波导中的非互易损耗。

集成了 LD的非互易损耗型波导光隔离器

非互易相移MZI型波导光隔离器

 

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