vasp 结构优化、静态计算、能带计算、态密度计算

接上一篇结构优化后,进行静态计算(scf)。

静态计算

使用命令将结构优化的文件夹(opt)复制为静态计算的文件夹(scf)

cp -r opt scf

打开scf文件夹,将生成的CONTCAR替换POSCAR

cp CONTCAR POSCAR

修改INCAR,只需修改 ISTART = 1 ; ICHARG =1;IBRION = -1; NSW =0

然后保存,提交任务;计算结束后可通过查看CHGCAR (用vesta)分析电荷密度。

DOS(态密度):

在静态计算基础上,进行态密度计算;

复制scf文件夹命名为dos

cp -r scf dos

 修改INCAR文件:ISTART = 1 ; ICHARG =11;添加 NEDOS=1000;

提交任务。之后通过vaspkit生成DOS图(前提需要将vaspkit复制到该文件夹下)

 运行vaspkit

./vaspkit

 vaspkit > 11>115  (115生成pdos分态密度,111只生成tdos总态密度)

 示范115:vaspkit > 11>115后需要选择所需的原子以及轨道(注:轨道与INCAR中的LORBIT设置有关,设置为10为spf轨道,11会细致到sx sy sz px 等)

就先输入原子 回车 再输入轨道:

eg : Mn 

           s

选择完之后再点击回车就会生成dat文件,下载用Origin打开.

band计算:

在静态计算基础上,进行态密度计算;

复制scf文件夹命名为band

用vaspkit产生HSE计算需要的KPOINTS文件,vaspkit ——> 303(体相材料Si)产生包含高对称点信息的KPATH.in

将KPATH.in替换KPOINTS

cp KPATH.in KPOINTS

修改Incar 

 ISTART = 1 ; ICHARG =11;添加 NBAND=120;ISYM =-1;LREAL =Auto; LPETIM = .FALSE.

提交任务

使用vaspkit>21>211生成band.dat,下载用Origin打开.

 

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### 回答1: 要计算硅的能带结构,可以使用VASP软件。以下是一些基本的步骤: 1. 准备输入文件。这包括一个POSCAR文件,它描述了硅晶体的几何结构,以及一个INCAR文件,它包含了VASP计算的各种参数。 2. 运行VASP计算。在计算过程中,VASP将使用第一性原理方法来计算硅晶体的电子结构,包括能带结构。 3. 分析输出文件。VASP将输出一些文件,其中包括能带结构文件。使用一些可视化工具(如VESTA或XCrySDen),可以将这些文件可视化并进一步分析硅的能带结构。 需要注意的是,计算硅的能带结构需要一定的计算资源和专业知识,建议在进行计算之前进行充分的准备和学习。 ### 回答2: VASP是一种常用的第一性原理计算软件,可用于模拟材料的能带结构。硅是一种重要的半导体材料,其能带结构对于了解其电子性质非常关键。 硅的能带结构在VASP中的计算步骤如下: 1. 准备初始结构:首先,我们需要创建一个硅的初始结构。硅的晶体结构为面心立方晶格,由硅原子组成。我们可以使用实验数据或者基于晶胞参数的理论模型来进行初始结构构建。 2. 能带计算设置:接下来,我们需要定义能带计算的相关设置。这包括计算方法(如密度泛函理论)、计算质量和收敛准则等。对于硅的计算,我们可以选择使用准确的GGA近似,如PBE(Perdew-Burke-Ernzerhof)近似。 3. K点网格和布里渊区:为了计算能带结构,我们需要在准备的初始结构上进行布里渊区积分。这需要定义K点网格。硅的晶体结构对应着特定的布里渊区。我们可以在计算过程中使用自动设置或手动设置K点网格。 4. 能带计算运行:通过定义好的初始结构计算设置和K点网格,我们可以运行VASP程序进行能带计算。程序将自动使用这些参数来计算硅的能带结构。 5. 结果分析和可视化:计算完成后,我们可以通过分析VASP输出的数据来了解硅的能带结构。这些结果通常以能量-波矢图的形式表示,展示了硅的能带分布和费米能级位置。 通过以上步骤,我们可以使用VASP成功地计算硅的能带结构。这些计算结果对于理解硅的电子性质、导电性和半导体器件性能的研究非常重要。
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