基本2层规则
1,元器件间距规则
整板间距 ALL-ALL,一般密度的板子 6mil间距即可。最小不要低于6mil(元器件太近焊接或者有大电流所需要的铺铜都会影响),最大不要超过7mil(许多贴片芯片的引脚间距都会比较小,在大会报错)
2,线宽规则
首先最好是,地线>电源线>信号线,其次信号线之间也最好遵循3W规则,基本最小设置为2mil,最大为100mil,方便后面各种宽度的线。
3,铺铜规则
对于4层及以上的板子,需要注意负片层VCC和GND的20H原则,还有PCB最后铺铜是直接连接还是十字连接,直接连接后面焊接时会散热较快。
4,阻焊层规则
默认即可需要
5,过孔规则
需要注意孔的网络,还有就是过孔的用处选择焊盘和孔的大小,有个小技巧就是焊盘是孔的一倍,左右2mil都行。
其他注意事项:(1)布局的好坏影响后面板子布线和过孔的多少(2)过孔不易多,过孔具有寄生电感寄生电容,寄生电容影响延长了信号的上升时间,降低了电路的速度,寄生电感主要是高速数字电路影响电容滤波(3)死铜默认移除就好(4)不同层布线不要交叉
基本4层规则
1.层叠结构
SIG-GND-PWR-SIG ;
对于这种方案是对于1.6mm来说最普遍的结构,该种方案只适用于器件密度不是很高的情况,并且这样顶层和底层的地平面比较完整,能作为一个较好的屏蔽层 来使用。需要注意的是电源层要靠近非主元件面的那一层,因为底层的平面会更完整。地层放在信号最密集的信号层的相连层,有利于吸收和抑制辐射;增大板面积,体现20H规则,增强EMI性能。
对于层的厚度分布看立创下单助手就行;
2.正片和负片
正片层(Signal)
正片就是平常用在走线的信号层,即走线的地方是铜线,也可以覆铜。
负片层(Plane)
负片正好相反,即默认整片是铜。可以理解为铜片,走线的地方是分割线分割敷铜,再设置分割后的敷铜网络。
内电层的分割实现
AD中直接用Line,快捷键P+L,来分割,分割线不宜太细,用15mil及以上。
要分割敷铜时,只要用Line画一个封闭的多边形框,在双击框内敷铜设置网络即可。
正负片都可以用于内电层,正片也可通过走线和敷铜实现。
负片的好处:当层数多时,改变过孔位置,或者改变覆铜大小,不需要重新确认覆铜,也就是当4层多的时候,如果都是信号层,在改变覆铜上的过孔时,会增加AD软件的处理数据负担,严重会卡死。(注意20H原则)
3.四层规则
和上面双层板规则相同,增加内缩设置,注意:最好信号层有一个相邻的地层或电源层,层数的增加是为了布线多,和器件多还有电磁干扰问题,对于高速板更要注意EMC的问题。不是板子越厚越好。层数越多规则越重要,双层靠布局和布线,多层靠规则。还有新的问题后续会继续更改增加(AD画板时,没事就保存,会有好处的)