屏幕空间环境光遮蔽
我们已经在前面的基础教程中简单介绍到了这部分内容：环境光照(Ambient Lighting)。环境光照是我们加入场景总体光照中的一个固定光照常量，它被用来模拟光的散射(Scattering)。在现实中，光线会以任意方向散射，它的强度是会一直改变的，所以间接被照到的那部分场景也应该有变化的强度，而不是一成不变的环境光。其中一种间接光照的模拟叫做环境光遮蔽(Ambient Occlusion)，它的原理是通过将褶皱、孔洞和非常靠近的墙面变暗的方法近似模拟出间接光照。这些区域很大程度上是被周围的几何体遮蔽的，光线会很难流失，所以这些地方看起来会更暗一些。站起来看一看你房间的拐角或者是褶皱，是不是这些地方会看起来有一点暗？
在2007年，Crytek公司发布了一款叫做**屏幕空间环境光遮蔽(Screen-Space Ambient Occlusion, SSAO)**的技术，并用在了他们的看家作孤岛危机上。这一技术使用了屏幕空间场景的深度而不是真实的几何体数据来确定遮蔽量。这一做法相对于真正的环境光遮蔽不但速度快，而且还能获得很好的效果，使得它成为近似实时环境光遮蔽的标准。
SSAO背后的原理很简单：对于铺屏四边形(Screen-filled Quad)上的每一个片段，我们都会根据周边深度值计算一个遮蔽因子(Occlusion Factor)。这个遮蔽因子之后会被用来减少或者抵消片段的环境光照分量。遮蔽因子是通过采集片段周围球型核心(Kernel)的多个深度样本，并和当前片段深度值对比而得到的。高于片段深度值样本的个数就是我们想要的遮蔽因子。
上图中在几何体内灰色的深度样本都是高于片段深度值的，他们会增加遮蔽因子；几何体内样本个数越多，片段获得的环境光照也就越少。
很明显，渲染效果的质量和精度与我们采样的样本数量有直接关系。如果样本数量太低，渲染的精度会急剧减少，我们会得到一种叫做波纹(Banding)的效果；如果它太高了，反而会影响性能。我们可以通过引入随机性到采样核心(Sample Kernel)的采样中从而减少样本的数目。通过随机旋转采样核心，我们能在有限样本数量中得到高质量的结果。然而这仍然会有一定的麻烦，因为随机性引入了一个很明显的噪声图案，我们将需要通过模糊结果来修复这一问题。下面这幅图片(John Chapman的佛像)展示了波纹效果还有随机性造成的效果：
你可以看到，尽管我们在低样本数的情况下得到了很明显的波纹效果，引入随机性之后这些波纹效果就完全消失了。
SSAO技术会产生一种特殊的视觉风格。因为使用的采样核心是一个球体，它导致平整的墙面也会显得灰蒙蒙的，因为核心中一半的样本都会在墙这个几何体上。
由于这个原因，我们将不会使用球体的采样核心，而使用一个沿着表面法向量的半球体采样核心。
通过在法向半球体(Normal-oriented Hemisphere)周围采样，我们将不会考虑到片段底部的几何体.它消除了环境光遮蔽灰蒙蒙的感觉，从而产生更真实的结果。
样本缓冲
SSAO需要获取几何体的信息，因为我们需要一些方式来确定一个片段的遮蔽因子。对于每一个片段，我们将需要这些数据：
- 逐片段位置向量
- 逐片段的法线向量
- 逐片段的反射颜色
- 采样核心
- 用来旋转采样核心的随机旋转矢量
通过使用一个逐片段观察空间位置，我们可以将一个采样半球核心对准片段的观察空间表面法线。对于每一个核心样本我们会采样线性深度纹理来比较结果。采样核心会根据旋转矢量稍微偏转一点；我们所获得的遮蔽因子将会之后用来限制最终的环境光照分量。
由于SSAO是一种屏幕空间技巧，我们对铺屏2D四边形上每一个片段计算这一效果；也就是说我们没有场景中几何体的信息。我们能做的只是渲染几何体数据到屏幕空间纹理中，我们之后再会将此数据发送到SSAO着色器中，之后我们就能访问到这些几何体数据了。你会发现这和延迟渲染很相似。这也就是说SSAO和延迟渲染能完美地兼容，因为我们可以通过存位置和法线向量等信息到G缓冲中。
G-buffer顶点着色器：
#version 450
layout (location = 0) in vec4 inPos;
layout (location = 1) in vec2 inUV;
layout (location = 2) in vec3 inColor;
layout (location = 3) in vec3 inNormal;
layout (binding = 0) uniform UBO
{
mat4 projection;
mat4 model;
mat4 view;
} ubo;
layout (location = 0) out vec3 outNormal;
layout (location = 1) out vec2 outUV;
layout (location = 2) out vec3 outColor;
layout (location = 3) out vec3 outPos;
out gl_PerVertex
{
vec4 gl_Position;
};
void main()
{
gl_Position = ubo.projection * ubo.view * ubo.model * inPos;
outUV = inUV;
// Vertex position in view space
outPos = vec3(ubo.view * ubo.model * inPos);
// Normal in view space
mat3 normalMatrix = transpose(inverse(mat3(ubo.view * ubo.model)));
outNormal = normalMatrix * inNormal;
outColor = inColor;
}
G-buffer顶点着色器：
#version 450
layout (location = 0) in vec3 inNormal;
layout (location = 1) in vec2 inUV;
layout (location = 2) in vec3 inColor;
layout (location = 3) in vec3 inPos;
layout (location = 0) out vec4 outPosition;
layout (location = 1) out vec4 outNormal;
layout (location = 2) out vec4 outAlbedo;
const float NEAR_PLANE = 0.1f; // 投影矩阵的近平面
const float FAR_PLANE = 64.0f; // 投影矩阵的远平面
float linearDepth(float depth)
{
float z = depth * 2.0f - 1.0f; // 回到NDC
return (2.0f * NEAR_PLANE * FAR_PLANE) / (FAR_PLANE + NEAR_PLANE - z * (FAR_PLANE - NEAR_PLANE));
}
void main()
{
// 储存片段的位置矢量到第一个G缓冲纹理
// 储存线性深度到outPosition的alpha分量
outPosition = vec4(inPos, linearDepth(gl_FragCoord.z));
outNormal = vec4(normalize(inNormal) * 0.5 + 0.5, 1.0);
outAlbedo = vec4(inColor * 2.0, 1.0);
}
提取出来的线性深度是在观察空间中的，所以之后的运算也是在观察空间中。确保G缓冲中的位置和法线都在观察空间中(乘上观察矩阵也一样)。观察空间线性深度值之后会被保存在outPosition颜色缓冲的alpha分量中，省得我们再声明一个新的颜色缓冲纹理，其中在片元着色器中，我们可以在gl_FragCoord.z中提取线性深度。
法向半球
我们需要沿着表面法线方向生成大量的样本。就像我们在这个教程的开始介绍的那样，我们想要生成形成半球形的样本。由于对每个表面法线方向生成采样核心非常困难，也不合实际，我们将在切线空间(Tangent Space)内生成采样核心，法向量将指向正z方向。
假设我们有一个单位半球，我们可以获得一个拥有最大64样本值的采样核心,我们在切线空间中以-1.0到1.0为范围变换x和y方向，并以0.0和1.0为范围变换样本的z方向(如果以-1.0到1.0为范围，取样核心就变成球型了)。由于采样核心将会沿着表面法线对齐，所得的样本矢量将会在半球里。
目前，所有的样本都是平均分布在采样核心里的，但是我们更愿意将更多的注意放在靠近真正片段的遮蔽上，也就是将核心样本靠近原点分布。我们可以用一个加速插值函数实现它：
#define SSAO_KERNEL_SIZE 64
...
// Sample kernel
std::vector<glm::vec4> ssaoKernel(SSAO_KERNEL_SIZE);
for (uint32_t i = 0; i < SSAO_KERNEL_SIZE; ++i)
{
glm::vec3 sample(rndDist(rndEngine) * 2.0 - 1.0, rndDist(rndEngine) * 2.0 - 1.0, rndDist(rndEngine));
sample = glm::normalize(sample);
sample *= rndDist(rndEngine);
float scale = float(i) / float(SSAO_KERNEL_SIZE);
scale = lerp(0.1f, 1.0f, scale * scale);
ssaoKernel[i] = glm::vec4(sample * scale, 0.0f);
}
...
float lerp(float a, float b, float f)
{
return a + f * (b - a);
}
这就给了我们一个大部分样本靠近原点的核心分布。
每个核心样本将会被用来偏移观察空间片段位置从而采样周围的几何体。我们在教程开始的时候看到，如果没有变化采样核心，我们将需要大量的样本来获得真实的结果。通过引入一个随机的转动到采样核心中，我们可以很大程度上减少这一数量。
随机核心转动
通过引入一些随机性到采样核心上，我们可以大大减少获得不错结果所需的样本数量。我们可以对场景中每一个片段创建一个随机旋转向量，但这会很快将内存耗尽。所以，更好的方法是创建一个小的随机旋转向量纹理平铺在屏幕上。
我们创建一个4x4朝向切线空间平面法线的随机旋转向量数组：
// Random noise
std::vector<glm::vec4> ssaoNoise(SSAO_NOISE_DIM * SSAO_NOISE_DIM);
for (uint32_t i = 0; i < static_cast<uint32_t>(ssaoNoise.size()); i++)
{
ssaoNoise[i] = glm::vec4(rndDist(rndEngine) * 2.0f - 1.0f, rndDist(rndEngine) * 2.0f - 1.0f, 0.0f, 0.0f);
}
由于采样核心是沿着正z方向在切线空间内旋转，我们设定z分量为0.0，从而围绕z轴旋转。
SSAO着色器
SSAO着色器在2D的铺屏四边形上运行，它对于每一个生成的片段计算遮蔽值(为了在最终的光照着色器中使用)。
下面我们直接贴出SSAO.frag片元着色器，并在注释中解释相关代码含义：
#version 450
layout (binding = 0) uniform sampler2D samplerPositionDepth;
layout (binding = 1) uniform sampler2D samplerNormal;
layout (binding = 2) uniform sampler2D ssaoNoise;
layout (constant_id = 0) const int SSAO_KERNEL_SIZE = 64;
layout (constant_id = 1) const float SSAO_RADIUS = 0.5;
layout (binding = 3) uniform UBOSSAOKernel
{
vec4 samples[SSAO_KERNEL_SIZE];
} uboSSAOKernel;
layout (binding = 4) uniform UBO
{
mat4 projection;
} ubo;
layout (location = 0) in vec2 inUV;
layout (location = 0) out float outFragColor;
void main()
{
// 获取G-Buffer中的数据
vec3 fragPos = texture(samplerPositionDepth, inUV).rgb;
vec3 normal = normalize(texture(samplerNormal, inUV).rgb * 2.0 - 1.0);
// 使用噪音纹理得到一个随机向量
ivec2 texDim = textureSize(samplerPositionDepth, 0);
ivec2 noiseDim = textureSize(ssaoNoise, 0);
const vec2 noiseUV = vec2(float(texDim.x)/float(noiseDim.x), float(texDim.y)/(noiseDim.y)) * inUV;
vec3 randomVec = texture(ssaoNoise, noiseUV).xyz * 2.0 - 1.0;
// 创建一个TBN矩阵，将向量从切线空间变换到观察空间
vec3 tangent = normalize(randomVec - normal * dot(randomVec, normal));
vec3 bitangent = cross(tangent, normal);
mat3 TBN = mat3(tangent, bitangent, normal);
float occlusion = 0.0f;
const float bias = 0.01f;
//我们对每个核心样本进行迭代，将样本从切线空间变换到观察空间，将它们加到当前像素位置上，并将片段位置深度与储存在原始深度缓冲中的样本深度进行比较
for(int i = 0; i < SSAO_KERNEL_SIZE; i++)
{
// 获取样本位置
vec3 samplePos = TBN * uboSSAOKernel.samples[i].xyz; // 切线->观察空间
samplePos = fragPos + samplePos * SSAO_RADIUS;
// 我们变换sample到屏幕空间，从而我们可以就像正在直接渲染它的位置到屏幕上一样取样sample的(线性)深度值。由于这个向量目前在观察空间，我们将首先使用projection矩阵uniform变换它到裁剪空间。
vec4 offset = vec4(samplePos, 1.0f);
offset = ubo.projection * offset;
offset.xyz /= offset.w;
offset.xyz = offset.xyz * 0.5f + 0.5f;
// 在变量被变换到裁剪空间之后，我们用xyz分量除以w分量进行透视划分。结果所得的标准化设备坐标之后变换到[0.0, 1.0]范围以便我们使用它们去取样深度纹理：
float sampleDepth = -texture(samplerPositionDepth, offset.xy).w;
#define RANGE_CHECK 1
#ifdef RANGE_CHECK
// 引入一个范围测试从而保证我们只当被测深度值在取样半径内时影响遮蔽因子
float rangeCheck = smoothstep(0.0f, 1.0f, SSAO_RADIUS / abs(fragPos.z - sampleDepth));
occlusion += (sampleDepth >= samplePos.z + bias ? 1.0f : 0.0f) * rangeCheck;
#else
//我们使用offset向量的x和y分量采样线性深度纹理从而获取样本位置从观察者视角的深度值(第一个不被遮蔽的可见片段)。我们接下来检查样本的当前深度值是否大于存储的深度值，如果是的，添加到最终的贡献因子上。
occlusion += (sampleDepth >= samplePos.z + bias ? 1.0f : 0.0f);
#endif
}
//最后一步，我们需要将遮蔽贡献根据核心的大小标准化，并输出结果。注意我们用1.0减去了遮蔽因子，以便直接使用遮蔽因子去缩放环境光照分量。
occlusion = 1.0 - (occlusion / float(SSAO_KERNEL_SIZE));
outFragColor = occlusion;
}
其中GLSL的smoothstep函数，它非常光滑地在第一和第二个参数范围内插值了第三个参数。如果深度差因此最终取值在radius之间，它们的值将会光滑地根据下面这个曲线插值在0.0和1.0之间：
如果我们使用一个在深度值在radius之外就突然移除遮蔽贡献的硬界限范围检测(Hard Cut-off Range Check)，我们将会在范围检测应用的地方看见一个明显的(很难看的)边缘。
首先，贴出一张未使用SSAO技术的模型：
编译着色器，运行环境遮蔽着色器产生了以下的效果：
上图是在shader中我们引入了范围测试的效果，下边我们关闭引入，可对比如下(在其柱与墙体交接处可明显看出效果)：
环境遮蔽模糊
在SSAO阶段和光照阶段之间，我们想要进行模糊SSAO纹理的处理，所以我们又创建了一个帧缓冲对象来储存模糊结果。
#version 450
layout (binding = 0) uniform sampler2D samplerSSAO;
layout (location = 0) in vec2 inUV;
layout (location = 0) out float outFragColor;
void main()
{
const int blurRange = 2;
int n = 0;
vec2 texelSize = 1.0 / vec2(textureSize(samplerSSAO, 0));
float result = 0.0;
for (int x = -blurRange; x < blurRange; x++)
{
for (int y = -blurRange; y < blurRange; y++)
{
vec2 offset = vec2(float(x), float(y)) * texelSize;
result += texture(samplerSSAO, inUV + offset).r;
n++;
}
}
outFragColor = result / (float(n));
}
这里我们遍历了周围在-2.0和2.0之间的SSAO纹理单元(Texel)，采样与噪声纹理维度相同数量的SSAO纹理。我们通过使用返回vec2纹理维度的textureSize，根据纹理单元的真实大小偏移了每一个纹理坐标。我们平均所得的结果，获得一个简单但是有效的模糊效果：
屏幕空间环境遮蔽是一个可高度自定义的效果，它的效果很大程度上依赖于我们根据场景类型调整它的参数。对所有类型的场景并不存在什么完美的参数组合方式。一些场景只在小半径情况下工作，又有些场景会需要更大的半径和更大的样本数量才能看起来更真实。当前这个演示用了64个样本，属于比较多的了，你可以调调更小的核心大小从而获得更好的结果。
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