tsmc18rf工艺库安装教程

在安装工艺库之前,先安装两个字体,把 virtuoso 启动时找不到字体的 warning 消掉。

sudo apt-get install xfonts-75dpi xfonts-100dpi

tsmc18rf 工艺库可从如下地址下载

https://download.csdn.net/download/qq_35379940/11953193

下载后得到文件 tsmc18rf_pdk_v13d.tar,解压后将文件放入/home/fxr/Cad中,如下

 

对于不同的工程,通常会采用不同的工艺和工艺库,因此把 PDK 安装在Mylib下。在 tsmc18rf 工艺库解压目录下直接执行如下语句进行安装。

perl pdkInstall.pl

其中 1P6M 指工艺为 1 层多晶硅 6 层金属。 

 

由于 IC610 以上的版本只能识别 OA 格式的 PDK,而 tsmc18rf 采用的是 CDB 格式,因此需要用 IC617 自带的工具进行转换。执行以下指令为转换做准备。

cd /home/fxr/Cad/Mylib/
mkdir -p OA/cdb
cp /home/fxr/Cad/Mylib/tsmc18rf_1P6M/cds.lib OA/cdb

编辑 OA/cdb/cds.lib 文件,删除前两行,将第三行改为如下形式,指向 CDB 格式的 PDK。

DEFINE tsmc18rf /home/fxr/Cad/Mylib/tsmc18rf_1P6M/tsmc18rf

进入 OA 文件夹,运行 virtuoso。

 

cd OA
virtuoso&

点击 Conversion Toolbox

在下图中点击 Browse,选择刚才修改的 cds.lib 文件,如下图红框中所示,然后点击 OK。

 

 

稍等一会儿,等运行完成后,删除原本 tsmc18rf_1P6M 文件夹中的 tsmc18rf, 用 OA 中生成的 tsmc18rf 替换它。

注意转换过程可能会有三个报错,这是由于缺少 libXp.so.6 动态链接库所致,cdb2oail 程序需要 libXp.so.6 才能运行,但 ubuntu18.04 中删除了该库,从而导致此错误。解决办法是,下载下面的 deb 安装包,然后用 dpkg 命令安装。

sudo dpkg -i libxp6_1.0.2-2_amd64.deb

libxp6_1.0.2-2_amd64.deb

安装完成后重启 virtuoso 重新进行转换,就不会报错了。

打开上面图中生成的 tsmc18rf 文件夹,找到 libInit.il 文件,将下面两行注释掉。

然后打开 /home/fxr/Cad/Mylib/tsmc18rf_1P6M/techfile,将文件中最后一段 Controls 段剪切到最前面,如下图所示。 

 

退出 virtuoso,回到之前的 Project 文件夹,重新运行 run_virtuoso。

cd /home/fxr/Cad/Project
virtuoso&

新建 Library,Name 为 tsmc18rf,点击 OK。

 

 在 ASCII Technology File 选择 /home/fxr/Cad/Mylib/tesmc18rf_1P6M/techfile (我已安装完毕,出不来这个画面),故找了一张。

等待运行完成即可。

这是的元件可能会因为缺少显示文件而显示不正常

拷贝 /home/fxr/Cad/Mylib/tsmc18rf_1P6M/display.drf 到 /home/fxr/Cad/Project

cp /home/fxr/Cad/Mylib/tsmc18rf_1P6M/display.drf /home/fxr/Cad/Project

然后重启cadence就可以了。

 

右下角缩略图是黑的,点击之后才会出现,如上图左方所示。

### 关于 TSMC 180nm 标准单元工艺的资料 对于希望了解或使用 TSMC 180nm 标准单元工艺的设计人员来说,可以访问特定资源来获取详细的文档和支持材料。一个公开可获得的相关资源位于 GitCode 上的一个开源工具包项目中[^1]。 该项目不仅提供了 TSMC 180nm RF 工艺 PDK 的下载链接,还可能包含了其他辅助性的设计文件和指南,这些都对理解如何应用此工艺节点非常有帮助。通过提供的链接可以直接进入存储页面,在那里能够找到更多有关安装配置以及具体使用的指导信息。 值得注意的是,虽然上述提到的是针对射频 (RF) 应用优化过的版本,但对于一般意义上的标准单元而言,很多方面也是相通的;因此即使不是专门面向 RF 设计的需求,这个资源仍然具有很高的参考价值。 另外,关于具体的 mask 层次定义如 `1p10m_5x2y2z_alrdl` 这样的术语,则通常会在工艺设计套件(PDK)内的层映射文件里有所描述,比如 Calibre layer_map 文件等,这有助于设计师正确识别不同掩模版对应的物理结构特征及其用途[^2]。 #### 获取方式 为了方便用户快速上手并有效利用所下载的内容,建议按照如下方式进行操作: - 访问 [GitCode 开源工具箱](https://gitcode.com/open-source-toolkit/e4599),浏览项目的 README 文档以获取初步指引; - 查看是否有直接可用的标准单元压缩包可供下载; - 如果存在在线教程或其他形式的帮助文档,请仔细阅读以便更好地理解和运用该工艺特性; - 对于更深入的技术细节或者遇到任何疑问时,可以通过社区论坛、邮件列表等方式寻求进一步的支持和服务。 ```bash # 假设已经克隆了仓到本地 cd path/to/cloned/repo ls -la # 列出所有文件查看是否存在README或者其他说明性文档 ```
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