光学薄膜

AR Coating 中文称做增透膜或抗反射膜，AR Coating 技术是利用光干涉原理在各种基材表面沉积一层或多层耐米级抑制反射的药材产品。主要应用于各类镜头、面版、手机面版、车载面板等所需防反射光学涂层，AR Coating 后的基材可使画面更鲜艳清晰。

利用光的干涉原理，减少光学元件表面的反射损失，在其表面镀层透明介质薄膜,这种薄膜就叫增透膜，蔡司公司的第一代单层增透膜就是蓝膜。

蔡司公司在镜片表面镀一层氟化镁 mgf2，厚度是可见光中间波段波长的四分之一，这样一来中间波段刚好可以被全部透射，不过可见光边缘波段的光线没办法全部透射，还有残存反射，在蓝色波段反射比较强烈，所以我们看到的这种镀膜呈现蓝色反光，俗称蓝膜。蓝膜的平均反射率大约是1.5%，这种镀膜是第一代增透膜，因为只有一层镀膜，也叫单层膜。

当光线从空气中射入到镜片表面，或者从镜片内部射出到空气中，都会发生反射导致光线损失，如果不镀增透膜，每次反射大约会损失5%的能量，而一架保罗棱镜望远镜的一侧镜筒，内部大约有10个空气接触面，这样一来大约50%的能量被损耗了（严格算法是1-（1-5%）的10次方，而且没考虑光线通过镜片内部时的吸收），导致成像昏暗对比度低。

增透膜的原理是把光当成一种波来考虑的，因为光波和机械波一样也具有干涉的性质。 在镜头前面涂上一层增透膜(一般是’氟化钙’,微溶于水),如果膜的厚度等于红光（注意：这里说的是红光）在增透膜中波长的四分之一时,那么在这层膜的两侧反射回去的红光就会发生干涉,从而相互抵消,你在镜头前将看不到一点反光,因为这束红光已经全部穿过镜头了。在理论作用上来说与增反膜恰好相反 。

增反膜是用光疏到光密有半波损失,然后薄膜片的厚度为λ/4n,这样来回就二分之一个波长,加上半波损失,就回去一个波长,两个相干相长,就可以增加反射的能量,根据能量守恒,这样就可以减少在透射过程的能量损失,一般两层透镜作用不明显,一般采用多层膜,最强可以达到99%。而光学镜头为减少透光量，增加反射光，通常要镀增反膜。

一个增强反光效果,一个增强光透过它的能力

抗反射涂层 （光刻中所用的抗反射涂层）

抗反射涂层(Anti-Reflection Coating, ARC)是旋涂于光刻胶与Si衬底界面处以吸收光刻反射光的物质

抗反射涂层主要包括：底部抗反射涂层、顶部抗反射涂层、可以显影的底部抗反射涂层、旋涂的含Si抗反射涂层、碳涂层等。

底部抗反射涂层(Bottom Anti-Reflection Coating, BARC)是位于Si衬底和光刻胶之间的涂层。主要成分是能交联的树脂、热致酸发生剂、表面活性剂以及溶剂。底部抗反射图层已经显现出减少反射和诸如驻波等问题的最有效的方法。

顶部抗反射涂层(Top Anti-Reflection Coating, TARC)是涂覆在光刻胶顶部的，完全依赖光学相消干涉(Destructive Interference) 来控制光刻胶表面的反射，也只能控制光刻胶表面的反射率，对光刻胶/衬底界面处的反射无法抑制。

可以显影的底部抗反射涂层(Developable Bottom Anti-Reflection Coating, DBARC)主要有两种。一种是能直接溶于显影液的抗反射涂层(Wet- Developable BARC)，由于涂层材料在显影液中是一个各向同性的过程，这种DBARC溶解后形成的侧面不是垂直的。另一种是光敏的抗反射涂层(Photosensitive DBARC)。在旋涂后烘烤的过程中，聚合物受热激发交联(Thermally Cross-Linking)反应。在曝光过程中，曝光光线透过光刻胶照射在涂层上，激发涂层中的光化学反应解除交联，使之溶解于显影液。光敏的DBARC是DBARC的主流。

旋涂的含Si抗反射涂层(SiARC)的主要材料是有机硅氧烷(organosiloxane)。

碳涂层(Spin-On-Carbon, SOC)，其主要成分是高C含量的聚合物。
选择抗反射涂层的一个因素是，在完成光刻工艺步骤之后抗反射涂层能够被除去的能力。在某些情况下有机抗反射涂层(主要是顶部抗反射涂层)是水溶的，通过显影步骤的冲水很容易去掉。无机抗反射涂层较难被去掉，特别是当它们的化学组成与下层类似时。这个抗反射涂层有时被留在硅片表面成为器件的一部分。