二-MOS管直流特性

 物理过程:

MOS管的物理结构中源漏是对称的,按照定义,载流子从源端流向漏端,对于N管来说,载流子为电子,故通常其漏电压高于源电压。

故首先从源端分析其导电过程:

(1)VG小于0,p-sub中空穴在衬底表面积累:

        提高VG后,栅-衬底相当于一上下极板电容器,栅压为正,故会排斥表面正电荷,而在表面留下固定负电荷。 

(2)0<VG<VTH,衬底表面正电荷耗尽,留下固定的负电荷:

        耗尽层形成后,继续增加栅压,在栅-耗尽层-p-sub相当于两分压电容,此时,衬底表面电压升高,从n型掺杂的源端吸引电子流向表面进而流向漏端,形成反型沟道。

(3)VG>VTH,强反型,自由电子从源端流向表面最终流向漏端,源漏之间形成反型沟道电流:

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Simulink是一种功能强大的工具,可用于进行模拟和仿真电子系统。在Simulink中,我们可以使用不同的模块来建立和连接电路元件,其中一种元件是Mos管Mos管,即金属氧化物半导体场效应晶体管,是现代电子设备中常见的晶体管类型。它由一个绝缘氧化层和一个金属栅极组成。Mos管的主要工作原理是根据栅极电场来控制导电通道。这意味着通过调整栅极电压可以改变晶体管的导电特性。 在Simulink中,我们可以使用不同的Mos管模块来建立和仿真电路。这些模块提供了关于Mos管的各种参数和特性,例如电流-电压关系和阈值电压。我们可以根据需要选择适当的模块,并设置参数来模拟不同类型的Mos管。 在进行Mos管仿真时,我们可以通过输入不同的电压和电流信号来观察和分析Mos管的响应。我们可以使用不同的工具和技术来检测和评估Mos管的性能,例如直流和交流分析、小信号等。 通过Simulink的Mos管仿真,我们可以更好地理解Mos管的行为和特性,并进行电路设计和优化。此外,Simulink还提供了丰富的工具和功能,如数据采集和可视化,以便进行更深入的分析和调试。 总之,Simulink是一个强大的工具,可以用于模拟和仿真Mos管及其在电子系统中的应用。通过Simulink的Mos管仿真,我们可以更好地理解其工作原理,并在实际电路设计中应用这些知识。

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