最新文献速递（1） —— 50nm的“极紫外”超构透镜体系

文献导读：今天介绍哈佛大学Capasso教授课题组最新的成果，“Extreme ultraviolet metalens by vacuum guiding”，该成果于2023年4月发表在杂志《Science》上。这篇文献将超构透镜的设计波段从之前的紫外光拓展到目前光刻机体系最前沿的波段——极紫外波段。

传统的超构透镜的工作波段主要由介质超表面的材料决定，下图是常见的介质材料体系，包括可见光波段TiO2二氧化钛、GaN氮化镓和Silicon单晶硅材料，近红外波段a-Silicon非晶硅材料和中波红外波段PbTe碲化铅材料等，华中科技大学张诚教授课题组采用HfO2氧化铪材料，将超构透镜体系拓展到紫外波段，这打开了超构透镜体系紫外光操控的大门。

然而将超构透镜的工作波段继续往紫外波段拓展时遇到了巨大的困难，因为介质材料在深紫外和极紫外波段拥有巨大的损耗，导致超构透镜在该波段的聚焦效率很低，目前很难找到在极紫外波段低损耗的材料。针对此问题，哈佛大学Capasso课题组提出了一套全新的超表面设计体系，即利用空气孔作为传输波导，而将硅介质材料的低折射率作为类似光纤的包层，将极紫外光束缚在空气中传播，以此实现较低损耗的相位调控和聚焦成像功能。
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下图是单元结构的示意图，结构的核心是一层220nm的硅介质平板，通过刻蚀硅介质板，形成半径尺寸不同的空气孔，由于硅在极紫外波段的折射率小于1，因此和空气孔相比，硅为低折射率材料，根据波导的性质可以知道，极紫外光会束缚在高折射率介质中，即空气孔中，因此极紫外光会局域在空气孔中产生共振，而不会因为硅介质的高损耗而影响透过率。
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这种超构透镜体系的难点不在于设计，而在于实验测量。由于找不到合适的材料作为基底，所以在加工过程中先利用SOI结构刻蚀空气孔，再利用复杂的剥离工艺将单层硅介质板从二氧化硅基底中镂空出来，这项工艺目前还存在较大的难度。下图展示了该成果的实验方案，利用三次谐波生成50nm的极紫外光束，然后通过极紫外超构透镜聚焦，并且利用CCD探测焦平面位置的光强分布。

总结：
这项成果将超构透镜的工作体系拓展到极紫外波段，极大的推动了当今纳米技术的发展。该工作作者有一个很有意思的构想：EUV光刻本身能够创造出更细粒度、更复杂的超表面，而超表面可以控制EUV光，进而实现“新一代光刻光学”。可以说，极紫外超构透镜不仅推动了超表面的发展，更是极大的推动了光刻机系统的创新，给未来新一代光刻和纳米工艺的前进提供了动力。

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参考文献：

1. Ossiander, M. et al. Extreme ultraviolet metalens by vacuum guiding. Science 380, 59–63 (2023).
2. Chen, W. T., Zhu, A. Y. & Capasso, F. Flat optics with dispersion-engineered metasurfaces. Nature Reviews Materials 5, 604–620 (2020).