三极管导通原理和MOS管的工作原理

本文介绍了晶体管尤其是MOS管的基础知识,包括其工作原理、结构(如N沟道增强型和耗尽型的区别)、电流控制方式(栅源电压影响)以及不同类型的电路符号。

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1、三极管

2、MOS管

晶体管是现代电子工业的基础。如果你在使用手机看这篇文章,手机里面就有数十亿甚至上百亿个晶体管,准确的来说是“场效应晶体管”。

场效应晶体管里的一种----“金属氧化物半导体场效应晶体管”,简称MOS管。

接下来从基础的电流和半导体开始,逐步加深,逐步去了解MOS管的结构和工作原理,然后还要了解它的电路符号。

看下这个简单的电路,“常规电流方向”和“电子流动方向”的区别要了解清楚,我们通常说的,电流从电池的正极流向负极,电场的方向也是如此,但二者都是参照所谓的“正电荷”来说的。其实,电子漂移的方向和它们相反。

MOS管是用硅之类的半导体材料制作的,半导体的电导率介于导体和绝缘体之间,为了改变纯硅的电导率,使其为我们所用,我们会给它掺入不同的杂质。如果掺入五价元素,就会得到N型半导体,以电子为主要 的载流子;如果掺入三价元素,就会得到P型半导体,以空穴为主要的载流子;

如果让它们靠在一起,二者接合处,N型半导体的电子就会进入P型半导体的空穴,形成所谓的“耗尽层”。 

如果P型连接电池正极,N型连接电池负极,即所谓的“正向偏置”,那么耗尽层就会变薄;

如果翻转电池极性,即所谓的“反向偏置”,耗尽层就会变厚。

 MOS管有两类:增强型和耗尽型,二者还可以再分为:N沟道和P沟道。

 接下来着重说明N沟道MOS管。

先看增强型N沟道MOS管,黄色区域代表N型半导体,蓝色代表P型半导体,P型半导体作为“衬底”,它的引脚称为“衬底引脚”,上面两个问别是“源极引脚”和“漏极引脚”,它们之间有一层薄薄的介电材料(即电绝缘体)就是图中的上方灰色部分。绝缘体上面也有个引脚,叫做“栅极引脚”,这就是MOS管的所有引脚。但由于MOS管是对称的,源极和漏极是可以互换的。让源极引脚和衬底引脚在内部相连,我们看到的就只有三个引脚了。这样还能防止电流从衬底流向源极,因为二者电势相同。

现在想让电流从漏极到达源极,给它们接上一个电池,电压用“Vds”表示,即“漏源电压”。

看下这个漏极电流与漏源电压的关系图,电池的正极,使漏极引脚这边的电势增高,从而增厚了漏极与衬底之间的耗尽层。因此,漏极与源极之间没有电流通过,MOS管没有导通,也就是进入了所谓的“截止区”。

想让电流通过漏极进入源极,二者之间就得有一个通道,即所谓的“沟道”。我们给栅极和源极接个小电池(低电压),电压用“Vgs”表示,即“栅源电压”,衬底是P型半导体,所以载流子为空穴,但它还是有一些自由电子,作为“少数载流子”。小电池使衬底内部形成了电场,因此,衬底中的电子开始向电场的反方向移动,也就是向栅极移动。因为有绝缘层,所以衬底中的电子不会进入栅极,而是会在靠近栅极的一侧聚集。

我们知道,电容器的两片金属板可以存储电荷,而且我们可以在金属板之间放上绝缘层(介电材料),用来增加它的电容量。同样,MOS管里的绝缘层,也会使两侧的电荷量增加,从而吸引来更多的电子,聚在一起。如果我们增加栅源电压,栅极的正电荷就会变多,因而就会有更多的电子聚集过来,逐渐填充某些空穴,也可以说是空穴被迫远离栅极。可以看到,靠近栅极这一块有了很多自由电子,也就有了更多的负电性,或者说,它变成了N型半导体,如此,MOS管内部就形成了一个连接源极和漏极的通道,就相当于挖了一个可以让电子通过的沟道。

 改变栅源电压,就能够改变沟道的深度,电压升高,沟道就会变深,电压降低,沟道就会变浅。沟道刚开始形成时的电压,叫做“阙值电压”。有了沟道,我们就可以让电流从漏极来到源极。

 

常规电流方向是从漏极到源极,但电子的流动方向与之相反,是从源极到漏极,这也是二者名字的成因。

源极是电子的来源,电子通过沟道后,从漏极漏了进去,但因为常规电流是从漏极到源极,所以它被称为“漏极电流”。

现在,MOS管处于“欧姆区”,也叫“线性区”,也就是说,随着漏源电压升高,漏极电流也成比例地增大。沟道中靠近漏极的负电荷会被吸入漏极。因为漏极处于高电势,但是,随着漏源电压升高,漏极和衬底之间的耗尽层也会随之变厚,因为二者是反向偏置的。如此,沟道变浅了,限制了电荷移动,减小了电流,随着电压逐渐升高,最终,沟道会被堵住,即所谓的“夹断效应”。

现实中,沟道不会被完全堵死,因为有大量电子正在通过沟道,保持着沟道畅通。虽然电流不会完全断开,但它会饱和,即所谓的“饱和电流”。发生饱和时的电压叫做“饱和电压” 。

现在,如果你继续升高漏源电压,电流增大的幅度只会很小,因为它已经饱和了。现在MOS管处于“饱和区”。

如果你还想进一步增大MOS管的电流,那么该怎么做呢?

前面说过,沟道的深度是由栅极决定的,升高栅源电压,我们就能加深沟道。如果我们再次升高漏源电压,漏极电流也会增大。漏源电压 升高到某一个程度后,夹断效应就会再次产生,电流就会再次饱和。

我们说MOS管是一种“电压控制元件”,控制栅源电压,继而就能控制漏极电流。

下图左边展示了漏源电压对漏极电流的影响;右边的展示了栅源电压对漏极电流的影响。

还有一种MOS管是“耗尽型”,它的沟道在 掺杂时就已经'“挖”好了。也就是说,增强型的沟道由栅源电压产生,而耗尽型的沟道是默认就有的。二者的基本原理是差不多的,只不过,耗尽型默认是导通的,需要给栅极施加负电压来断开。

接下来看下它的电路符号,MOS管有四个引脚,栅极的引脚并不是和衬底相连的,它们之间有绝缘层,所以符号中的栅极引脚单独在一侧,源极和衬底内部是相连的,所以符号里也用相连的引脚表示。

右侧竖线如果是断开的,那就是增强型,正如其默认断开的沟道;如果是一条实线,则是耗尽型。箭头指向 衬底,就是N沟道,因为其电子向栅极的方向聚集,反之就是P沟道,因为其电子向远离栅极的方向聚集。

<think>好的,我需要解释PNP三极管条件。首先,回顾一下三极管的基本结构。PNP型三极管由三层半体组成,中间是N型,两边是P型。三个分别是发射(E)、基(B)集电(C)。 用户可能想知道的条件,即什么时候电流能从E流向C。首先,的关键在于发射结集电结的偏置状态。对于PNP管,发射常是接较高电位,集电接较低电位。要让三极管,发射结(P到N)必须正向偏置,集电结(N到P)反向偏置。这可能NPN管的情况相反,需要注意区分。 然后需要详细说明各电压关系。例如,对于PNP,发射电压V_E应高于基电压V_B,这样发射结正偏。同时,基电压V_B应高于集电电压V_C,这样集电结反偏。这样电流才能从E到B再到C,形成路径。 可能用户会混淆PNPNPN的电压性,需要强调两者的区别。比如,NPN是B电压高于E,而PNP则是E电压高于B。此外,时的电流方向也要说明,PNP的电流是从E到BE到C,而NPN相反。 还需要提到放大状态的条件,即发射结正偏,集电结反偏,这时候三极管处于放大区,可以用于放大信号。如果两个结都正偏,可能进入饱区,这时候虽然,但放大作用减弱。而截止区则是两个结都反偏,不。 可能用户会问到具体的电压数值,比如典型的工作电压是多少。这里可以举例,比如在常见的电路中,V_E可能比V_B高0.7V左右(硅管),而V_C则比V_B低,以确保集电结反偏。但实际数值可能因具体型号电路设计而异。 另外,可能需要指出应用场景,比如PNP管常用于高边开关,而NPN用于低边开关。这有助于用户理解为什么选择不同类型的晶体管。 最后,检查是否有遗漏点,比如是否要提到温度影响或者电流关系(如I_E = I_B + I_C),但用户主要问的是条件,可能不需要深入电流公式,除非必要。 总结起来,步骤应该是:结构介绍,偏置条件,电压关系,与NPN的对比,工作区域,应用举例。确保用中文清晰表达,公式用$$,例如电压条件:$$V_E > V_B > V_C$$。</think>PNP三极管条件与工作状态密切相关,以下是详细说明: ### 1. **基本结构** PNP型三极管由三层半体构成: - **发射(E)**:P型半体(高掺杂) - **基(B)**:N型半体(薄且低掺杂) - **集电(C)**:P型半体(面积较大) ### 2. **条件** 要使PNP三极管(进入放大状态),需满足以下电压关系: $$V_E > V_B > V_C$$ - **发射结(E-B)正偏**:发射电压($V_E$)高于基电压($V_B$),即$V_{EB} > 0.7\ \text{V}$(硅管)。 - **集电结(B-C)反偏**:基电压($V_B$)高于集电电压($V_C$),即$V_{BC} < 0$。 ### 3. **原理** - **发射结正偏**:P型发射区的空穴扩散到N型基区,形成发射电流$I_E$。 - **基区控制**:少量空穴与基区电子复合,形成基电流$I_B$,大部分空穴被集电结电场拉向集电区,形成集电电流$I_C$。 - 电流关系:$$I_E = I_B + I_C$$ ### 4. **与NPN管的区别** | **特性** | **PNP** | **NPN** | |----------------|-----------------------|-----------------------| | 电压方向 | $V_E > V_B > V_C$ | $V_C > V_B > V_E$ | | 电流方向 | 从E流向BC | 从C流向BE | | 典型应用 | 高边开关、负压电路 | 低边开关、正压电路 | ### 5. **工作状态** - **放大区**:发射结正偏,集电结反偏(满足条件),$I_C$受$I_B$控制,满足:$$I_C = \beta I_B$$($\beta$为电流放大系数)。 - **饱区**:发射结集电结均正偏,三极管完全,$V_{CE}$接近0。 - **截止区**:发射结反偏,无电流过。 ### 6. **实际应用示例** - **高边开关电路**:PNP管常用于控制电源正断。例如: ``` +Vcc ──┬─ E ├─ B(过电阻接地) └─ C ── 负载 ── GND ``` 当基电压低于发射时,三极管,负载得电。 ### 7. **注意事项** - 若基-发射电压$V_{EB}$超过最大额定值(常5-6V),可能损坏三极管。 - 温度升高会致$\beta$增大,需设计稳定电路(如负反馈)。 过以上条件,PNP三极管可实现电流放大或开关功能,广泛应用于电源控制、信号放大等场景。
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