NHDEEP档案管理系统功能介绍

NHDEEP档案管理系统单机版专注于提高档案管理效率,无需网络连接即可独立运作,确保数据的安全与私密性。无论是机关单位的常规档案工作,还是工程、基建项目的特殊档案管理需求,系统都能提供全面的解决方案。系统支持信创环境。

核心技术亮点

简易配置:系统开箱即用,无需复杂设置,用户可以迅速创建案卷库或一文一件库,极大地简化了档案管理的初始步骤。

定制著录:支持标准著录项,并允许用户按需添加额外自定义项目,满足不同用户的个性化需求。

批量处理:高效的数据导入能力,以及自动化档号和件号生成,适合大量档案的快速入库,提升工作效率。

原文附件:方便挂接电子文件,用户可以直接在系统内查看原文,提升查阅便利性。

稳定性与兼容性:系统性能稳定,适应信创环境,确保档案管理的连续性和一致性。

系统参考《电子文件管理系统通用功能》,业务上结合档案归档规范,实现支持从不同来源进行收集著录、整理编目、组盒、组卷。

支持件条目和案卷条目的创建、修改、查看、批量导入导出excel、批量修改著录项;著录时自动检查格式、可连续著录、自动生成档号;批量挂接原文文件、查看原文文件、验证数字签名;支持目录打印;

支持卷内目录、案卷目录、归档文件目录打印,可以自定义件目录、案卷目录、卷内目录的打印模版

系统提供跨库统一查询功能,满足用户各类查档需求以及利用需求。

档案库配置管理功能包括档案类型的新增、修改、删除、查询功能。

档案类别包括公文类、会计类、人事类、项目类、合同类、日常类等。档案类别可根据需要进行增加,并可增加分组。类别档案管理要素可根据实际业务定制,如添加自定义的著录项、字段类型、填充规则、分类号、字典项、档号生成规则等。

软件下载地址

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内容概要:该论文围绕在平面和曲面基底上实现所需的薄膜厚度梯度展开,开发了一套数学模型用于计算磁控溅射技术沉积的薄膜厚度分布。模型可用于设计屏蔽罩或掩模形状,以拦截源与基底之间的材料,实现特定的薄膜厚度梯度。论文不仅探讨了平面基底上的均匀涂层,还扩展到旋转和曲面基底,考虑了靶材磨损对薄膜厚度分布的影响及通过旋转基底改善均匀性的效果。实验结果与理论计算显示良好一致性。此外,论文还通过迭代优化算法调整屏蔽罩开口宽度来改善厚度均匀性,并分析了不同初始条件对镀膜长度和效率的影响。 适合人群:从事材料科学、物理气相沉积(PVD)技术研究的专业人士,尤其是关注薄膜制备工艺的研究人员和技术人员。 使用场景及目标:①理解磁控溅射过程中如何通过数学模型预测和控制薄膜厚度分布;②学习如何利用掩模技术实现特定的厚度梯度;③掌握优化屏蔽罩开口宽度以提高镀膜均匀性和效率的方法;④探索不同初始条件对镀膜效果的影响,寻找最优工艺参数。 其他说明:论文提供了详细的理论推导、模型构建及其实现代码,包括但不限于余弦定律、高斯分布、掩模优化算法等。这些工具可以帮助读者深入理解磁控溅射过程中的物理现象,并为实际应用提供指导。同时,文中还讨论了模型的局限性和改进方向,如边缘区域的理论预测偏差等问题。
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