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光刻技术
尽力而为,乘风破浪
未来不期,当前不杂,过往不恋
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光刻工艺公开资料汇总:
[1]韦亚一,超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M],科学出版社,2016[2]王向朝,集成电路与光刻机[M],科学出版社,2020[3]伍强,衍射极限附近的光刻工艺[M],清华大学出版社,2020[4]马科斯.波恩,光学原理(光的传播、干涉和衍射的电磁理论)(第7版)[M],电子工业出版社,2016[5]王向朝,光刻机像质检测技术(上下册)[M],科学出版社,2021[6]李金龙,ArF浸没光刻双工件台运动模型研究[D],中国科学院大学,2013[7]刘晓林,浸没式ArF光刻机物镜的光学设计原创 2022-02-13 18:35:49 · 2473 阅读 · 4 评论 -
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聚焦深度DOF原创 2021-05-16 12:03:37 · 1177 阅读 · 0 评论