光刻工艺公开资料汇总：

[1]韦亚一,超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M],科学出版社,2016

[2]王向朝,集成电路与光刻机[M],科学出版社,2020

[3]伍强,衍射极限附近的光刻工艺[M],清华大学出版社,2020

[4]马科斯.波恩,光学原理(光的传播、干涉和衍射的电磁理论)(第7版)[M],电子工业出版社,2016

[5]王向朝,光刻机像质检测技术(上下册)[M],科学出版社,2021

[6] Chris Mack,Fundamental Principles of Optical Lithography 

[7]Burn J. Lin,Optical Lithography Here Is Why.

[8]李金龙,ArF浸没光刻双工件台运动模型研究[D],中国科学院大学,2013

[8]刘晓林,浸没式ArF光刻机物镜的光学设计及像差控制[D],北京理工大学,2015