声光调制器实验研究_二维层状材料光调制器：现状与展望

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专家视点

光调制是光子学和光电子学中的一项基本操作。随着现有和新兴技术对紧凑、高效、快速和宽带光调制器的要求越来越高，高性能的光调制解决方案变得越来越不可或缺。近年来，人们认识到二维层状材料可以以优异的性能调制光，这促使人们进行了大量的研究并取得了重大进展，为实际应用铺平了道路。在此，孙志培等人总结了基于二维材料的光调制器的研究现状，包括石墨烯、过渡族金属硫化物和黑磷。进一步地，讨论了利用其混合结构的最新进展，如二维异质结、等离子调制器、硅和光纤集成调制器。最后，对二维层状材料及其应用前景进行了展望并讨论了尚未被探索的机制的潜力，例如磁光和声光调制。该成果发表在Nature Photonics上。

Z. Sun, A. Martinez and F. Wang, Optical modulators with 2D layered materials, Nature Photonics, 10, 227-238 (2016).

       光调制是光子学中最重要的操作之一。它广泛存在于光子学和光电子应用中，如光互连、环境监测、生物传感、医学和安全应用等。我们正处在一个信息时代，互联网应用(例如，流媒体、云计算和物联网)继续以极快的速度发展。这使得网络数据互连的数量呈指数级增长，其中包括传统的数据网络以及芯片内和芯片间的数据连接。主要的电子互连方法(例如铜缆)由于其在速度、能量消耗、色散和串扰方面的性能限制而面临带宽和损耗问题。这就迫切需要具有更好性能的替代互连方法。光学解决方案具有更高带宽和更低损耗的固有优势。因此，人们正致力于光调制的研究，以期开发出紧凑、经济、高效、快速和宽带的高性能光互连光调制器。这也将极大地影响其他应用，如光纤到户、环境监测、天文、生物传感和医疗应用。

      近年来，石墨烯等二维层状材料(如过渡族金属二硫化物和黑磷)由于其独特的电学和光学性质，在电子学、光子学和光电子学中的应用越来越受到人们的关注。二维层状材料表现出丰富多样的物理行为，从宽带绝缘体到窄间隙半导体到半金属或金属，为各种光子和光电子功能提供了令人兴奋的机会，使新的光子器件得以实现，这与传统的基于块材料的光子器件有着根本的不同。例如，石墨烯作为最热门的二维材料，已经被广泛应用于众多的光子和光电子器件中，其工作范围从紫外、可见光、近红外到中红外都非常广泛，由于具有独特的线性能量-动量色散关系，其远红外甚至达到太赫兹和微波区域。目前实现的器件包括显示器中的透明电极、太阳能电池、光调制器和光电探测器。

除石墨烯外，单层过渡族金属硫化物(例如，MoS₂和WS₂)和黑磷是直接带隙半导体，提供与石墨烯互补的性能。不同的二维材料可以通过范德华力堆叠在一起以形成二维异质结而不存在传统的“晶格失配”问题，为设计所需的物理特性提供了一种灵活而简便的方法。二维材料已被证明与不同的光子结构兼容，例如光纤和硅器件。尤其是，二维材料为大规模(例如，高达晶圆级光电探测器)和低成本集成到当前的主导光纤网络和硅互补金属氧化物半导体技术提供了潜力。

与传统大块半导体相比，二维材料还具有机械柔韧性、易于制造和集成、坚固耐用等优点。此外，先前对石墨烯和其他二维材料的研究表明，集成光子电路所需的几乎所有功能(例如，光子的产生、调制、检测和传播)都可以通过二维材料实现。这种操作的多功能性结合其独特的电子特性(即高迁移率和带隙可调性)可以使基于二维材料的电子和光子器件的集成实现多功能集成光子和电子电路。

二维层状材料中的光调制效应是近年来研究最为广泛的研究课题之一。值得注意的是，这导致了大量不同调制机制的光调制器原型实现(全光、电光和热光调制；方框1)，显示出竞争性的性能。例如，石墨烯光调制器最独特的性能是其极宽的工作带宽，可以覆盖从可见光到微波的区域。这些基于二维材料的光调制器已经得到了有效的应用。例如，石墨烯、其他二维材料及其基于异质结的可饱和吸收体(全光被动调制器)已成功地应用于各种激光器中产生超快脉冲，显示出优越的性能。这大大刺激了各种激光应用的商业化，包括用于光互连的高重复率超快激光源。石墨烯启用的非线性波长调制器和电光调幅器也已在高达22 Gbit/s的高速数据传输实验中进行了测试，有望在光互连中实现高速光调制。

框1 光调制器的基本原理。光调制器可以用不同的方式分类。例如，根据被调制光的属性(面板a)，光调制器可以分为振幅调制器、相位调制器、偏振调制器、波长调制器等。根据工作原理(面板b)，光调制器可分为全光调制器、电光调制器、热光调制器、磁光调制器、声光调制器、机械光调制器等。根据用于光调制的材料的光学性质，调制器可分为吸收型调制器或折射型调制器。对于吸收型调制器，材料的吸收系数(即折射率的虚部)由吸收相关效应控制，如饱和吸收、电吸收、Franz-Keldysh效应和量子限制斯塔克效应。在折射调制器中，光调制一般是通过与折射率实部变化相关的效应来实现的，如克尔效应、普克尔效应、折射率的热调制以及折射率随声波的变化。

      调制深度、插入深度、能量损耗等都是衡量调制效率的关键指标。调制速度是光调制器的一个重要参数。它通常由调制降低到其最大值的一半时的工作频率来定义。大多数数据传输应用(例如网络互连)通常需要快速调制，其中，调制速度通常通过其以特定数据传输速率(例如，bit/s)调制光信号的能力来测量。调制深度通常用消光比来测量，即透射型器件的最大和最小透射比(T_max/T_min)之比(或反射率型器件中最大与最小反射率R_max/R_min之比)。因此，调制深度通常由10×log(T_max/T_min)(或10×log(R_max/R_min))给出。对于大多数应用(例如，高数据速率互连和高灵敏度感测)，高调制深度(>7 dB)是优选的；然而，<4 dB的调制深度对于某些应用(例如，被动锁模和短距离数据传输)足够。调制器的另一个重要参数是其工作波长范围。对于光数据传输系统，调制器通常需要在三个主要电信窗口中的一个或多个(即~0.85、1.3和1.5 μm)下工作或者在可见光范围内工作，以便进行可见光无线通信。对于某些应用，如数据中心和高性能计算，能源效率现在是一个关键的要求。对于片上连接，未来节能光学调制器的目标能耗估计约为几个fJ/bit(比当前功耗水平低约两个数量级)。光学器件和系统包括调制器，有可能在更低的能耗和更高的数据连接速度方面优于电子设备。调制器的插入损耗直接关系到系统的能量效率，因而也具有实际意义。此外，其他考虑因素，如稳定性(例如热稳定性)、兼容性(例如波导管；面板b)、占地