半导体器件tcad设计与应用电子版_TCAD：集成电路 EDA 核心技术

     TCAD(Technology Computer Aided Design)全称是半导体工艺和器件仿真软件。整个 EDA 软件中，TCAD 在器件设计和工艺开发环节中发挥着至关重要的作用，是集成电路设计和制造中不可缺少的重要组成部分，是 EDA 软件系统中的核心底层。 

     目前全球 TCAD(传统 TCAD)仿真工具主要被两家美国公司 Synopsys 和 Silvaco 垄断 ，两者市场份额总和超过 90%。但是随着集成电路技术的发展，其先进制造技术逐渐逼近 3-5nm 技术节点，传统的 TCAD 将面临巨大的困难和挑战。

主要的困难有 3 点： 

当器件到达深纳米尺度甚至原子尺度时，量子效应将起重要作用，而传统的模型没有完备地包含量子效应。 

当器件达到纳米尺度后，通过实验手段获得可靠的参数变得越来越困难和费时费力。 

诸多新型电子器件和电子材料的不断问世，完全超出了传统 TCAD 方法的应用范畴。

     Atomistic TCAD 是目前全球最先进和最准确的从原子尺度进行仿真，用来设计原子尺度电子器件的 TCAD 工具，完美的解决了传统 TCAD 面临的三大问题，包括量子效应、实验参数和新型器件。与传统的工艺建模技术相比，Atomistic TCAD 是原子级的计算机辅助设计软件，通过对纳米级半导体电子器件进行建模和仿真，无需进行大量实验测量便可以准确地获得过程技术参数。它可以有效地缓解纳米级半导体行业设计和制造中常见的难题，并有助于半导体制造商加快半导体工艺的开发，提高良率。此外，Atomistic TCAD 可以扩展到对任何新型材料进行仿真，并具有广泛的行业应用。