7价 半导体掺杂_第七章 半导体的接触现象汇总

本文详细探讨了半导体的接触现象,包括半导体与金属间的肖特基结和欧姆接触,半导体与半导体之间的同质结和异质结,以及半导体与介质材料的接触。当外电场作用于半导体时,会导致空间电荷的重新分布,形成空间电场,对表面层电子的电势和势能产生影响,进而改变能带状况。
摘要由CSDN通过智能技术生成

67

第七章

半导体的接触现象

半导体的接触现象主要有半导体与金属之间的接触

(肖特基结和欧姆接触)

半导体与半导体之间的接触

(同质结和异质结)

及半导体与介质材料之间的接触。

§

7-1

外电场中的半导体

无外加电场时,均匀掺杂的半导体中的空间电荷处处等于零。当施加外电场

时,在半导体中引起载流子的重新分布,从而产生密度为

)

(

r

的空间电荷和强

度为

)

(

r

的电场。载流子的重新分布只发生在半导体的表面层附近,空间电荷

将对外电场起屏蔽作用。

7-1a

表示对

n

型半导体施加外电场时的电路图。

在图中所示情况下,

半导

体表面层的电子密度增大而空穴密度减小

(见图

7-1b

c

)

从而产生负空间电荷。

这些空间电荷随着离开样品表面的距离的增加而减少。空间电荷形成空间电场

s

,在半导体表面

s

达到最大值

0

s

(见图

7-1d

)

。空间电场的存在将改变表面

层电子的电势和势能(见图

7-1e

f

)

,从而改变样品表面层的能带状况(见图

7-1g

)

电子势能的变化量为

)

(

)

(

r

eV

r

U

,其中

)

(

r

V

是空间电场(也称表面层电

场)的静电势。此时样品的能带变化为

)

(

)

(

r

U

E

r

E

c

c

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