最近南京大学固体微结构物理国家重点实验室在国际顶级学术刊物Physical
Review Letters (PRL,影响因子大于7)和 Advanced Materials(AM,影响因
子大于8),几乎同时发表了两篇几乎完全一样的论文:
1. New Self-Limiting Assembly Model for Si Quantum Rings on Si(100)
L.W. Yu, K. J. Chen,* J. Song, J. Xu, W. Li, X. F. Li, J. M. Wang,
and X. F. Huang
Physical Review Letters 98, 166102 (2007) (2006年11月7日投稿,
2007年4月20日发表)
(论文链接
http://scitation.aip.org/getpdf/ ... iletype=pdf&id=
PRLTAO000098000016166102000001&idtype=cvips&prog=normal)
2. Self-Assembled Si Quantum-Ring Structures on a Si Substrate by
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Based on a Growth-Etching
Competition Mechanism**
Lin Wei Yu, Kun Ji Chen,* Jie Song, Jun Xu, Wei Li, Hong Min Li,
Mu Wang, Xue Fei Li, and Xin Fan Huang
Advanced Materials (Communication)2007, 19, 1577–1581 (2006年
12月7日投稿,2007年2月6日修改稿,2007年5月23日发表)
(论文链接
http://www3.interscience.wiley.c ... /114268326/PDFSTART)
从下面的具体数据不难看出,这是一起十分典型的一稿多投的不道德行为。
1. PRL论文上共有5张图,AM论文上共有6张图,AM上的前5张图与PRL的5张
图几乎完全一样(能看出细微区别的仅仅是图1中的分辨率略有不同),AM上新
增的第6张图基本上属于示意图。
2. PRL上一共有6个公式,AM上一共有7个公式,实际上两篇论文的所有公式
完全相同,作者仅仅把AM上的公式(5)和(6)合并成PRL上的公式(5)。
3. 论文的作者几乎一样, 特别是第一作者与通讯作者完全相同。
4. 两篇论文的主要结论几乎一致。
(PRL)In summary, we propose a new self-limiting assembly growth
model for Si quantum ring structures on Si(100). Based on a
growth-etching competition mechanism, we obtain perfect Si quantum
rings with excellent rotational symmetry, narrow edge width (down to
10 nm), and tunable size and morphology. We suggest that this growth
model is not limited to a certain material system, but also represents
a general scheme to control and even tailors the evolution of the
self-assembly nanostructures into desired size, shape, and complexity,
and thus has important theoretical and practical implications.
(AM)In summary, we have, for the first time, fabricated
self-assembled Si quantum-ring structures on a Si substrate by using a
PECVD technique based on a plasma growth/etching competi-tion
mechanism.We obtained perfect Si quantum rings with excellent
rotational symmetry and a narrow edge width (down to 10 nm). Moreover,
the ring size and morphology were tuned by
simply adjusting the timing procedure, and the fabrication process
was fully compatible with standard microelectronic Si technologies.
The as-grown Si ring structures could be electrically well isolated by
controlling the ring/substrate junction bias condition, which lays the
ground work for further device applications. We also suggest that this
growth model, because it is not
limited to certain specific material systems, actually represents
a general scheme for controlling and tailoring the shapes, sizes, and
complexities of self-assembled nanostructures.
有人会认为这是国际学术界先发短文(Letter,Communication)再发长文
(Regular paper)的正常行为,稍作分析就会发现这种理由根本站不住脚:
1. PRL和AM(Communication)所发论文的性质和要求几乎一样,新、短、
快是它们共同的特点,不存在一篇短的和一篇长的问题。
2. 如果仅仅是长短文的区别,从表明上看,长文应该是在短文的基础上,
对原文进行大量补充、拓展, 使短文中未能表达清楚的思想和内容更加丰富,以
利于读者的阅读。 从PRL(4页)和AM(5页)的两篇论文看,未能看出研究内容
的本质变化(仅有的一点变化就是AM比PRL多了一张图)。
3. 作为学术界惯例,长文一般在短文发表以后(至少在接受以后)再投稿
发表,而PRL和AM的两篇论文几乎同时投稿、同时发表。
4. 再提一点学术论文的基本常识,在后发表长文的参考文献中,一定要引
用前面已发表(或将要发表)的短文,这一点是判断这两篇论文是否为长短文关
系的关键。遗憾的是我们没有发现两篇论文互相引用。
这件事发生在中国最好的国家重点实验室身上,的确应该值得中国学术界反
思。 而且两篇论文的通讯作者陈坤基教授还是一位著名科学家[见中国科学院学
部主席团关于公布2007年院士增选有效候选人的公告(信息技术科学部,序号
23),
http://www.casad.ac.cn/2007-6/2007613102619.htm],另一位作者Mu
Wang(王牧)还是固体微结构物理国家重点实验室主任
(http://vl-ssm.nju.edu.cn/organizationall.asp)。如果名教授、领导都不
能在自己作为重要作者的文章中起监督作用,谁还会去遵守学术的道德底线?谁
又有资格和能力去净化已遭严重污染的中国学术空气?