超大规模集成电路先进光刻理论与应用_光刻胶全名单一览：芯片科技的下一个突破口！（名单）...

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用，被视为芯片科技的下一个突破口。

光刻是半导体制程的核心，制程时间占比为40%-60%。而光刻胶作为光刻工艺中图形转移的载体，几乎决定了晶圆厂所能达到的制程高度，光刻胶是半导体、平板显示器、PCB等微电子、光电子领域加工制造中使用的关键材料，其性能直接影响了下游应用产品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性，光刻胶是国产替代的重要环节。

光刻胶是由树脂、感光剂、溶剂及各类添加剂等组成的对光敏感的混合液态感光材料。光刻胶又称为光致抗蚀剂，是图形转移介质，其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形转移至衬底上。

光刻胶全名单一览

一、张江高科（600895）

全资子公司张江浩成此次向微装公司投资人民币 223,450,000 元，投资完成后，张江浩成将持有微装公司 10.779%的股权。 微装公司是国内唯一一家研发、生产以及销售高端光刻机的企业，也是全球第四家生产IC前道光刻机的企业。微装公司拥有发明专利1442项，是国内工业4.0、先进制造、智能制造的典型代表。在先进封装光刻机等领域，微装公司的国内市场占有率超过80%，全球市场占有率为40%。

二、蓝英装备（300293）

公司瑞士子公司UCM AG主要为光学和精密仪器行业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD 涂层前清洗等典型的清洁度要求最高的应用领域，公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备及解决方案。凭借行业领先的技术实力，UCM AG为ASML（荷兰光刻机制造商阿斯麦公司）及其供应商提供极紫外光刻机（EUV）的光学系统相关关键部件的清洗设备。

三、南大光电（300346）

为提升公司后续的发展能力，公司加大了对 193nm 光刻胶和前驱体的研发投入力度，公司研发费用投入比去年同期增加一倍。 公司正在自主创新和产业化的 193nm 光刻胶项目，已获得国家 02 专项“ 193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ ArF 光刻胶开发和产业化项目”的正式立项，先后共获得中央财政补贴 15,101.65万元，地方配套 5,000 万元。

四、怡达股份（300721）