超大规模集成电路_【IWAPS 2020】福利来袭，留言区抽5人，送超大规模超大规模集成电路先进光刻理论与应用...

IWAPS

2020

4th International Workshop on 

Advanced Patterning  Solutions

中国 成都

Nov. 5-6

留言区抽5人

送《超大规模超大规模集成电路先进光刻理论与应用》

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欢迎报名参会！

会 议 介 绍

        近年来，中国集成电路产业蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

        作为国内唯一的高端光刻技术研讨会，其发言者为光刻及其相关领域的国内外资深专家和学者，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前技术现状、未来发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

主 办 单 位

中国集成电路创新联盟

中国光学学会

承 办 单 位

中国科学院

微电子研究所

中科芯未来微电子

科技成都有限公司

中国科学院

光电技术研究所

四川省

经济合作局

协 办 单 位

成都

工业学院

南京诚芯集成电路

技术研究院

技 术 支 持

IEEE电气和电子工程师协会

组 委 会

General Chair

Secretary General

Program Chair

International Advisory

Committee Members

演 讲 嘉 宾

报 告 要 求

口头报告

被选作进行口头报告的作者，应当参加2020年的IWAPS 会议并用英文进行15分钟与论文相关的技术报告。演讲者应当预先提供其会议报告的PPT。

海报展示

被选作进行海报展示的作者，可于展示当日上午9点起张贴海报。展板上将印有按序排列的论文编号，请按论文编号将海报张贴在相应位置。会场将提供图钉用于海报张贴。

关 于 IWAPS

2017年IWAPS在北京

链接：首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕

2018年IWAPS在厦门

 链接：第二届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕

2019年IWAPS在南京

链接：第三届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕

长按扫码报名IWAPS 相约 中国 成都 2020 11月 5-6日 四川川投国际酒店 中国成都双流金河路66号