Lumerical官方案例、FDTD时域有限差分法仿真学习（十六）——表面等离子共振纳米光刻

案例链接：Surface plasmon resonant nanolithography

此示例说明如何创建表面等离子体共振纳米光刻接触掩模的 FDTD 模型。 FDTD 布局编辑器中显示了石英基板（蓝色）、银接触掩模（灰色）、光刻胶（粉红色）和硅晶片（红色）的 2D 横截面，以及仿真中使用的源和监视器。

一、官网原文

要重现以下结果，请打开并运行模拟文件。 使用脚本文件创建以下图。

通过银掩模层（y = 0 到 60 nm）和光刻胶层（y = -50 到 0 nm）的横截面中的近场强度图以对数刻度显示。 在银掩模/光刻胶界面可以清楚地看到表面等离子体模式。 周期性结构允许垂直入射光束耦合到反向传播的表面等离子体波，这会导致光刻胶层内近场强度的亚波长变化。

光刻胶层中间的近场光强度，在接触掩模下方 30 nm，被绘制为位置的函数。 所示的高对比度允许将最小尺寸约为 80 nm 的图案转移到光刻胶上。 使用表面等离子体实现的这种亚波长结果远低于 436 nm 光源的衍射极限，因此适用于纳米光刻应用。

二、解释模型

如果是直接从监视器观察结果，则会因为最大最小光强相差较大，显示如下。

而如果利用官网给的脚本文件，画出对数图。

就能够直接地观察得到亚波长特征。