改善压降过大的六种方法

本文介绍了六种改善PCB压降过大的方法,包括电源位置优化、电源拆分、增大电源路径通道、增加电源平面、增多换层过孔及更换低内阻电感。这些措施能有效降低压降,提高硬件工程的性能。
摘要由CSDN通过智能技术生成

改善压降过大的六种方法

当进行完压降仿真完之后,如果结果都是PASS的话是我们最希望看到的,但是时常会因为某些原因,导致压降不通过,下面介绍几种弥补压降的几种措施

方法一

靠近用电端

  1. 如下图,电源放的离用电端太远

  1. 将电源模块尽量靠近用电端放置,尤其是小电压大电流的电源,压降改善会非常明显

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1. 在放大电路和开关电路中,要提升MOS(金属-氧化物-半导体)器件的最高工作频率,可以采取以下措施: - 缩小MOS器件的尺寸:通过减小晶体管的尺寸,可以缩短电荷注入和排出的时间,从而提高响应速度和工作频率。 - 优化MOS器件的结构设计:通过改变栅极长度、厚度和掺杂浓度等参数,可以改善电流传输效率和响应速度,从而提高工作频率。 - 采用高迁移率材料:使用高迁移率材料作为通道层,如高介电常数的高介电材料或III-V族化合物半导体,可以提高载流子的迁移率,从而增加器件的工作频率。 2. 在比较BJT(双极型晶体管)和MOS的开态电阻RON及对应压降时,需要注意以下几点: - MOS的开态电阻RON较小:由于MOS的通道是由控制栅极电压来调节的,MOS在导通状态下的电阻比BJT要小得多。 - MOS的压降较小:由于MOS的导通电阻较小,因此在相同电流下,MOS的压降也较小,从而减少了功耗和热量的产生。 3. MOS器件中,载流子迁移率受以下因素的影响: - 载流子浓度:载流子浓度越高,迁移率越大。因此,通过控制掺杂浓度可以调节载流子迁移率。 - 材料特性:不同的材料具有不同的载流子迁移率。例如,硅材料的迁移率较低,而III-V族化合物半导体的迁移率较高。 - 界面态和表面态:界面态和表面态对载流子迁移率有一定影响。这些态可以通过表面处理、氧化层质量的改善等方式进行控制。 - 温度:温度对载流子迁移率有显著影响,一般来说,随着温度的升高,迁移率下降。 以上是关于放大电路、开关电路中提升MOS最高工作频率、比较BJT和MOS的开态电阻RON及对应压降,以及MOS器件中载流子迁移率受影响因素的回答。
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