优化Layout布局层级

一个常见误区是认为使用基本布局（layout）结构更能构建高效的布局。然而，添加到应用中的每个控件和布局都需要初始化、布局和绘制。例如，使用嵌入式的LinearLayout会导致过深的视图(view)层级结构（即view树的深度值会很大）。而且，嵌入一些使用了权重的LinearLayout代价可能是非常昂贵的，因为每个子视图(child view)都需要被测量(measure)两次。当布局被多次重复加载（比如在ListView和GridView中使用的项布局）时，就更值得注意了。
从本文中，将学会使用Hierarchy Viewer和Layoutopt来测试和优化布局。

1 审查布局

Android SDK tools文件夹中包含一个Hierarchy Viewer工具，开发人员可以使用该工具来分析程序运行时的布局状态。使用该工具可以帮助开发人员发现布局中的性能瓶颈。
Hierarchy Viewer会让你在已连接的真机或模拟器上选择一个正在运行的进程，然后显示它的布局树型结构（即view树）。每个view块上的状态灯代表了它在测量、布局和绘制时的性能，以帮助开发人员识别出潜在的问题。

例如，图1显示了一个ListView中的一个项布局。该项布局里，左边显示一张小的bitmap图片，右边显示两个层叠的文本项。值得注意的是，该布局会被多次加载。因此，一次优化，多次受益，在性能上会达到事半功倍的效果。

将目录切换到/tools/ 下就可以找到 hierarchyviewer工具了。当打开hierarchyviewer后，首先会显示一个可用设备列表和它们的组件。点击“Load View Hierarchy ”来查看选中组件的布局层级结构。例如，图2显示了图1中指出的列表项的布局。


图2中有一个三层的布局结构，且表明展开的文本项有问题。点击每项会显示view绘制过程中每个阶段耗费的时间（如图3）。这样，哪个view在测量、布局和渲染阶段花费的时间最长就清晰可见了，开发人员也知道优化哪儿了。
在该布局中整个列表项渲染完成的时间花费是：
Measure:0.977 ms
Layout:0.167 ms
Draw:2.717 ms

2 修正布局

上面的布局由于使用嵌入式的LinearLayout而降低了性能，该性能可以通过使布局层级扁平化来获得提升，即使布局层级浅而宽，而不是窄而深。考虑使用RelativeLayout就能实现这样的布局。所以，转换为RelativeLayout布局后，就能看到变成了两层的布局结构，可以像下面这样审查新的布局：

现在列表项渲染的时间花费是：

Measure:0.598 ms
Layout:0.110 ms
Draw:2.146 ms

可能看起来是一个很小的提升，但由于布局会在列表项中重复使用，该时间会被累加，从整体来说，性能提升效果就明显了。
这个时间差主要是由LinearLayout的layout_weight属性所引起的，权重会放缓测量的速度。上面仅是一个怎样合理使用布局的例子，并且是否使用权重来布局开发人员应该仔细考虑。

3 使用Lint

运行Lint工具来寻找布局层级中可能的优化方法，是一个很好的实践。Lint已经取代了Layoutopt工具并且拥有更强大的功能。Lint一些原则如下：
- 使用合成图片（compound drawables）-处理包含一个ImageView和TextView的LinearLayout的复合布局可能更加高效。
- 合并根帧(Frame)-如果FrameLayout是一个布局的根元素，并且没有提供背景或填充间隔(padding)等，那么可以使用更高效的标签代替。
- 无用的叶子节点（即view树的叶子）-为了使布局层级更加漂亮、高效，应该将那些没有子节点或没有背景的布局元素给移除(因为它们是不可见的)。
- 无用的父节点-具有子节点但没有兄弟节点，不是一个ScrollView或根布局元素，并且没有背景的布局应该被移除，让子节点直接移到父节点的位置。这样可以使布局层级更加漂亮、高效。
- 深度布局-具有很多嵌套的布局在性能表现上是很糟糕的。可以考虑使用更加漂亮的布局，比如RelativeLayout和GridLayout，来提升性能。View树的默认深度值是10。
Lint的另一个好处是它集成在Android Studio 中。无论开发人员何时编译程序，Lint都会自动运行。
在Android Studio中，开发人员也可以单独运行Lint来审查特定的构建体或所有的构建体。
开发人员也可以管理审查选项，在Android Studio中打开File->Settings->Project Settings选项来配置审查。审查配置页会显示所有支持的审查项目。

Lint也有自动修复，提供建议，直接跳转到预览视图中对应代码处的能力。