OPC分类

基于规则的光学邻近效应修正和基于模型的光学邻近效应修正是两种不同的光刻技术中用于纠正邻近效应（OPC）的方法。

基于规则的光学邻近效应修正：

• 原理： 这种方法依赖于预定义的规则集合，根据光刻工艺的经验和规则，设计师手动创建一系列规则来修正邻近效应。这些规则可能包括增加或缩小特定区域的尺寸、改变边缘形状或间距等。

• 特点： 基于规则的方法通常是经验性的，适用于特定工艺和特定情况下的修正，不需要复杂的模型或计算。但是，这种方法可能难以覆盖复杂的情况，并且在工艺变化时可能需要手动调整规则。

基于模型的光学邻近效应修正：

• 原理： 基于模型的方法使用物理模型或仿真工具来模拟光刻过程中的光学效应，例如光束传播、衍射等。这些模型可以基于物理原理，如电磁场的传播，或者是统计学模型，通过收集和分析大量实验数据来创建。

• 特点： 这种方法更加灵活，可以适应更广泛的工艺和情况。它能够预测复杂情况下的效应，并且可以自动化地进行修正。但是，它可能需要更多的计算资源和时间来建立模型和进行仿真。

选择使用哪种方法通常取决于工艺的复杂性、可用资源以及对修正准确性和自动化程度的要求。一些工艺可能会结合使用这两种方法，利用基于规则的修正来解决简单的情况，而对于更复杂的情况则使用基于模型的方法。

根据修正方法的不同，OPC可分为基于规则的OPC（RBOPC）和MBOPC，而MBOPC又可分为基于边缘的OPC（EBOPC）和基于像素的OPC（PBOPC）。

计算光刻一些名词解释 - 知乎

https://developer.nvidia.com/culitho