目录
1.半导体基础知识
- 常用的半导体材料:硅(Si)、锗(Ge)
- 本征半导体:纯净的具有晶体结构的半导体/即 无杂质 稳定
- 空穴:本征半导体由于热运动,价电子会脱离共价键束缚,成为自由电子,同时,共价键中留下一个空位,即空穴(原子因失去一个价电子而带正电,或者一般,我们就习惯说——空穴带正电)
- 复合:就是指空穴和一个自由电子碰到一起,重新在一起形成共价键
- 载流子:运载电荷的粒子;本征半导体中由两种载流子-自由电子和空穴
- N型半导体:在本征半导体中参入五价元素(如磷),就形成了N型半导体。N型半导体的自由电子浓度>空穴的浓度,故称自由电子为多数载流子(多子),空穴为少数载流子(少子)
解释:磷取代原来本征半导体的元素,可能是硅可能是锗,然后磷原子外围有五个电子,在和其他硅原子形成共价键后,还会多出来一个电子。下面同理,少一个电子
- P型半导体:~参入三价元素(如硼),就形成了P型半导体,空穴浓度>自由电子浓度,那么此时空穴为多子,电子为少子
2.PN结
- 首先,PN结具有单向导电性(很重要)——正向导通,反向截至。
- PN结形成:PN半导体结合,由于浓度差,导致多子的扩散运动,那么就会在中间区域形成 空间电荷区 ,该区域的形成导致——内电场的形成,那么在内电场的电场力作用下,就会形成载流子的运动,即漂移运动(P 区的少子电子向 N 区运动, N 区的少子空穴向 P 区运动)。 //内电场是阻碍多子的扩散,有利于少子的飘移// 当进行扩散运动和漂移运动的载流子数目相同,达到动态平衡时,PN结就形成了。
重点:1. 这里,要明白扩散运动和漂移运动是什么,并且知道其形成原因 漂移运动——一定说的是少子 切记
2. 外加内电场对多子和少子的影响
红字均有标出 要明白
- 上图所示,就是PN结加正向电压的示意图,此时PN结——导通.耗尽层变窄,扩散运动加剧,由于外电源的作用,形成扩散电流,PN结导通
注1:正向导通——P接正级,N接负极 // 很容易因为N型半导体加P磷元素而弄混
反偏反接即可注2:上图中的外接电阻R,必须要有,其作用是限流 **具体原因后面会说**
- 上图所示,为PN结加反向电压的示意图,此时PN结——截止
- 因为反向电压,耗尽层变宽,阻止扩散运动,有利于漂移运动,那么这个时候其实是有漂移电流存在的,但是由于电流很小,故而近似认为其截至。
额外解释:1.半导体在环境温度升高时,其内部热运动加剧,那么此时挣脱共价键的电子就会增多,那么也就是说——自由电子和空穴的浓度都会加大
2.在杂质半导体中,温度变化,载流子数目的变化是一样的(多子和少子的变化数目是一样的,因为你多一个自由电子,同时就会多一个空穴)
3.但浓度的变化是不一样的,因为多子少子的基数是不一样的,即分母是不一样的,虽然变化的数目是一样的,但明显少子的浓度变化是更多的,所以——**少数载流子是影响半导体器件温度稳定性的主要原因**,原因:当温度变化时,他的相对变化会非常大
4.那么再看上图,在加反向电压时,外加电场不变,温度上升,就会导致反向电流增大,且增大速度极快,即少数载流子是影响半导体器件温度稳定性的主要原因
3.PN结的电容效应
- 势垒电容与扩散电容之和即为 结电容
- 结电容主要是想告诉我们:1.结电容不是常量(和器件型号,外加电压电流等都是有关系的) 2.PN结外加电压频率高到一定程度时,则会失去单向导电性
小解释:结电容有电容特性,那么
容抗,当w增大时(即频率上升),容抗就会减小,那么当太大时,就会短路。
- 综上,当我们现在再考虑半导体器件时,一想有PN结,那么就应该知道一定有最高频率的限制