硬件基础之MOS管

一、技术理论

1.场效应管定义

场效应管:场效应晶体管(Field Effect Transistor,FET),利用 输入回路的电场效应 控制 输出回路电流 的一种半导体器件。

2.场效应管分类(压控)

结型场效应管,JFET

绝缘栅型场效应管,也称为金属氧化物半导体场效应管,简称MOS-FET,也就是MOS管

3.MOS管分类

        MOS管分为N沟道与P沟道两类,每一类又分为增强型耗尽型两种,因此MOS管共有四类:N沟道增强型、N沟道耗尽型、P沟道增强型、P沟道耗尽型。

增强型:U_{gs} 电压为零时,I_{ds}=0 的管子

耗尽型:U_{gs}电压为零时,I_{ds}\neq 0 的管子

4.增强型MOS管构造

N沟道MOS管:

 P沟道MOS管:

5.常用封装

二、增强型NMOS管

1.输入输出特性曲线

2.输出特性曲线分析

3.输入特性曲线分析

U_{gs}<U_{gs}(th) 时,I_{d}=0 ;

U_{gs}>U_{gs}(th) 时,U_{ds} 为一常量时,U_{gs} 越大,I_{d} 越大

4.应用说明

实际应用时,NMOS管常作为低端驱动与开关使用,源极S接地,此时,MOS管工作在夹断区与可变电阻区。

夹断区,I_{d}=0 , 此时,功率 P=I_{d}*U_{ds}=0

可变电阻区,U_{ds} 相对很小,功率 P=I_{d}*U_{ds} 相对也很小

三、增强型PMOS管

         所以,PMOS管一般作为高端驱动器件,源极S接电源正极。

        补充:如果我们是控制电源,我们认为是高端驱动;如果我们是控制地下的话,就是低端驱动。

1.输入输出特性曲线

 2.输出特性曲线分析

3.输入特性曲线分析

\left | U_{gs} \right | < \left | U_{gs}(th) \right | 时,I_{d}=0

\left | U_{gs} \right | > \left | U_{gs}(th) \right | 时,U_{ds} 为一定常量时,\left | U_{gs} \right | 越大, I_{d} 越大

4.应用说明

实际应用时,PMOS管常用作高端驱动与开关结合,此时,PMOS管工作在夹断区与可变电阻区。(一般不在放大区,功耗太大)

夹断区,I_{d}=0,此时功率 P=I_{d}*U_{ds}=0

可变电阻区, U_{ds}相对很小,功率  P=I_{d}*U_{ds} 相对也很小

四、寄生电容与寄生二极管(很重要)

1.寄生电容 

        如下图,由于源极S与衬底B相连,源极S、栅极G、绝缘膜刚好组成寄生电容 C_{gs} ,此电容大小为 pF 级别,一般规格书可以查到。

         使用时,要特别注意GS管脚的寄生电容 C_{gs} ,控制MOS管的导通和截止,本质上是控制 C_{gs} 电容的充放电

        如果要求MOS管快速导通与截止,此时需要驱动源能够提供足够大的驱动电流,以提供 C_{gs}电容的瞬间充放电

        如果仅仅作为开关使用,可以串电阻,以减小 C_{gs} 的充放电电流,此时,对驱动源的要求就不高,单片机的IO口(推挽输出时,可以提供20mA的驱动电流)可以直接驱动。 

         R14的电阻是不能少的,因为一直的直接瞬间的冲放电电流的冲击是很大的,会影响产品的 寿命以及可靠性。所以需要存在该电阻来缓冲,并可以并联一个寄生电容。

        R6与U8之间就存在一个寄生电容。R3的作用也是用来缓冲电源端的电流冲击,保护Q3二极管;但R3也不能太大,以防充得太慢,会影响U8出来的波形。

2.寄生二极管

        如下图,为NMOS管的构造,衬底B与源极S、漏极D均存在PN结,由于源极S与衬底B相连,左边的二极管无效,源极S与漏极D存在寄生二极管,方向为S指向D。

        增强型P沟道:

        使用时,要特别注意 内部的寄生二极管,如果接反,将导致无法关闭MOS管;另外,某些场合可以巧用寄生二极管,比如作防反接使用时。

3.NMOS管用于防反接保护(项目实战)

        因为NMOS管一般是低端驱动器件,一般是放在地。

1)防反接

设计说明:

1.巧妙利用内部寄生二极管。上电时,通过内部寄生二极管,V_{gs}电压大于V_{th} 电压,NMOS管完全导通;

2.R87,R88:电阻分压,调整V_{gs} 电压,V_{gs} 电压尽量大,这样 R_{on} 越小,压降越小,损耗越低;

3.D25,稳压二极管,防止V_{gs} 电压超过极限电压。

        补充一点,MOS管没有规定电流方向,D到S和S到D都可以,双向流动,其内部只是一个沟道。

2)低端开关

 设计说明:

1)R14起到限流作用,单片机输出高电平时,通过R14给 C_{gs} 电容充电,U7导通;单片机输出低电平时,C_{gs} 电容通过R14放电,U7截止;

 2)由于单片机输出电压没有超过 V_{gs} 的运行电压,GS端不需要并电阻到地。

 

3)PWM开关

 设计说明:

1.单片机输出PWM流控制NMOS管,D级接到2.5V的参考电压,再通过RC滤波,可以控制输出0
~2.5V电压输出,再配上放大器、射随(极跟随器),可以实现PWM调压输出;

2.R21电阻不能太大,否则C_{gs}电容充放电速度过慢,波形输出受影响,也不能太小,否则C_{gs} 电容充放电过大,单片机IO驱动不了。

 

 

        NMOS管的选型依据:

1.常用型号:AO3400,AO3414,AOD4184等,型号很多,可以根据需求合理选择:

2.选型依据:

I_{ds}电流,导通电阻Ron越小,允许的I_{ds}越大;

②开关速率,手册里的打开、保持、关闭时间;

V_{gs}开启电压,驱动电压,极限电压;

V_{ds}极限电压

⑤封装尺寸

小结:

        NMOS管是驱动电路常用的器件,使用时根据需求合理选择型号,应用时应该注意内部寄生参数,极限参数,提高产品的可靠性。

4.PMOS管用于防反接保护

1)防反接

         利用了U8里的内部寄生二极管来实现导通的,若是没有寄生二极管就无法导通(V_{GS}没有滴电压)。

设计说明:

1.巧妙利用内部寄生二极管,上电时,通过内部寄生二极管,\left |V_{gs} \right | > \left | V_{th} \right | , PMOS管完全导通;

2.R29、R31:电阻分压,调整 \left | V_{gs} \right |\left | V_{gs} \right |需要尽可能大,这样,R_{on}越小,压降越大,损耗越低;

3.D5,稳压二极管,防止 \left | V_{gs} \right | 电压超过极限电压。

2)高端开关

 设计说明:

        1)如果VIN电压小于单片机IO口电压,可以去掉U6,直接控制U5;

        2)R10,R12:电阻分压,调整 V_{gs} 电压,\left | V_{gs} \right | 电压尽量大,这样R_{on} 越小,压降越小,损耗越低;

        3)R12同时起到限流作用,U6导通时,C_{gs} 寄生电容通过R12充电,避免过大的充电电流流过U6,出现大批量生产时,MOS管被击穿的现象;

        4)R16同样起到限流作用,单片机输出低电平时,C_{gs} 寄生电容通过R16放电,避免过大的放电电流流过单片机的IO口,出现大批量生产时,单片机IO口被击穿的现象;

        5)F2是PTC可恢复保险丝,起到限流、短路保护的作用。

五、MOS管与BJT的差异

        (BJT是多子和少子同时参与导电(流控型),MOS只有多子导电(阻值很大,压控性))

        场效应管的栅极g、源极s、漏极d对应于晶体管的基极b、发射极e、集电极c,作用比较类似,都可以作为开关、放大使用(还有驱动),但结构、工作方式、性能差异较大。

1.场效应管只有多子参与导电,为单极性;而晶体管的多子与少子均参与导电,为双极性

2.因为少子数目受温度、辐射影响较大,因而场效应管比晶体管的温度稳定性好、抗辐射能力强;

3.场效应管用 U_{gs} 控制漏级电流 I_{d} ,输入阻抗达 10^{10} Ω,栅极电流几乎为0;而晶体管工作时基极需要一定的电流。因此,要求输入阻抗高的电路应选用场效应管;

4.场效应管的电流方向可以为D到S,也可以S到D,而晶体管的电流方向只能为C到E(NPN)或E到C(PNP),不能同时两个方向。

备注:

NMOS->方向D至S,与寄生二极管反向,NMOS管可控

              方向S至D,与寄生二极管同向,NMOS管不能关闭

PMOS->方向S至D,与寄生二极管反向,PMOS管可控

              方向D至S,与寄生二极管同向,PMOS管不能关闭

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