渲染程序的笔试准备

必考的就是渲染管线了

几何阶段

obj space->world space->eyespace->project to CVV to clip(frustum culling)->project to screen coordinate space

->primitive assmbly

光栅阶段

->rasterization->pixel operation(alpha test, stencil test, depth test, blending..)

 还是用我自己的话总结一下吧 之前是几个变换用矩阵乘就可以

viewspace之后是cvv裁剪 再投到屏幕 到目前为止都是对顶点进行操作，顶点可以光栅化吗 明显不是。

光栅化是针对面的。也就是说中间需要图元组装这一步，就是把刚刚处理完的顶点在连成面（比如三角形），所以背部剔除之类的也是在这里进行

然后把面转成像素点，也就是光栅化，然后对这些像素进行各种处理吧纹理操作，各种混合

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stencil buffer for mark

framebuffer=colorbuffer+ z buffer(depth)

OpenGL---GLSL

Direct3D---HLSL

NVIDIA----Cg

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Dx

Local Space->World Space->View Space->Backface Culling->Lighting->Clipping->Projection->

Viewport Space->Rasterization

 

这个渲染管线还是要重新把realtime rendering里面背一遍''''''照dx这么答 被挑毛病了'''merge那些

 

前面两个版本都不好讲得乱七八糟甚至矛盾realtime rendering上面这个为准吧

Application stage

Geometry stage

Model&View transform->Vertex shading->Projection->Clipping->Screen Mapping

 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　CVV　　　　

Rasterizer stage

 

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第二题

skinned mesh 

meshvex=weight1*bone1*vmesh+weight2*bone2*vmesh+......

http://blog.csdn.net/n5/article/details/3105872。        

这个没问

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第三题 光照模型

 Lambert的漫反射模型

I=I+I=KI+KI(N dot L)

第一个I是各向等量的环境光产生的，第二个I是有方向光源产生的。 k为反射系数（0，1），I为光源光强随距离增加而衰减，N法线向量L顶点到光源单位向量

phong的镜面反射模型（高光）

I=KI(V dot R)ⁿ

n为高光指数，V顶点到视点单位向量，R反射光方向

既有漫反射又又镜面反射的 就是把前两个加起来

 Blinn-phong

I=KI(N dot H)ⁿ

H=normlize(L+V) L=light to pos, V=pos to view

 

第四题 alpha混合

 问这个肯定是在放水了

 result = ALPHA * srcPixel + ( 1 - ALPHA ) * destPixel

可惜这次面试拒绝放水

水的波动效果的实现

最崩溃的是 deferred shading''''

 

基本上 所有面试官都会拿他们自己遇到的问题 作为开放式问题来提问

3d场景 2d人物

随机弹坑造成的mesh凹陷 这个有个小trick 关闭zbuffer

多动态光源的光照 就是deferred shading

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这就让我想起来另外两个觉得很有意思的trick

shadowmap  selfshadow aliasing 这个渲染产生自阴影的mesh的时候 backculling那里 剔除front 渲染back

还有就是辐射度算法 从每一个patch看这个世界 看到对他影响的所有像素 还有5个相机合成半立方体

http://freespace.virgin.net/hugo.elias/radiosity/radiosity.htm 

http://dev.gameres.com/Program/Visual/3D/Radiosity_Translation.htm

虽然很老 但是这个视野感觉特别 有创意

deffered shading都没这么让我感觉

不过辐射度效率特别低 

转载于:https://www.cnblogs.com/minggoddess/p/3557585.html