FPGA形态学滤波设计

顶层框架设计

Tophat变换(白帽)实际上是原图像与“开运算”的结果图之差，算法数学表达式如下：

根据以上公式，设计系统顶层框图如下所示：

开运算为先腐蚀后膨胀的过程，将原图输入流依次流过腐蚀运算流水线和膨胀运算流水线即可，不过要注意时序对齐！！！，开运算的设计框图如下所示：

腐蚀与膨胀运算可以理解为在形态学处理核（n*n的矩形窗口）范围内寻找像素灰度值的最小值或最大值。他们之间只有些许差别，因此在设计时，将一维的腐蚀和膨胀操作划分为一个模块，通过入口参数(ERO_DIL)进行腐蚀或膨胀选择。二维腐蚀与膨胀操作的设计框图如下图所示：

一维膨胀与腐蚀模块完成输入数据流的连续几个数据的比较，完成流水线输出。设计框图如下所示：

子模块设计

在子模块设计中我们往往采用自底向上的设计原则。根据上一节所设计的整体框架及模块划分，我们需设计以下模块：
(1) 比较子模块min_max.v
(2) 一维形态学腐蚀/膨胀子模块morph_1d.v
(3) 二维形态学腐蚀/膨胀子模块morph_2d.v
(4) 二维形态学开运算子模块morph_open_2d.v
(5) 二维形态学Tophat运算模块morph_tophat_2d.v