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美光2021年资本支出达90亿美元,以支持DRAM和NAND市场需求。美光正评估EUV技术,并计划扩展晶圆厂和封测设施。文章列举了多种内存条型号。
摘要由CSDN通过智能技术生成

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据台媒报道,美光执行副总裁兼事业长 Sumit Sadana日前在「2021 前瞻技术应用暨市场展望」活动上表示,2021 年美光资本支出将达90亿美元,希望供应可以正好符合市场的需求成长,不管DRAM或NAND部分,美光都会持续通过资本支出支持市场需求。此前,美光曾在财报中预计, 2021年DRAM 的成长约 15%~19%(High teens),对于NAND的成长则预估大概在 30%。

此外,美光的一部分资本支出也会用于扩建更多的晶圆厂空间,更多的无尘式空间,因为每一代新的技术会使用到的工具、基台都越来越多。另外,还有一部分的资本支出会用来扩充美光内部封测设施,除了自己的封测产能之外,其他的部分也会持续仰赖供货商。另外,对于何时导入EUV设备的问题,Sumit Sadana 强调,美光持续评估 EUV 的技术,也与生产 EUV设备的厂商合作。目前是处在研发的模式之下,因此一直在评估什么时候是最佳的时机。当 EUV 成为最具成本效益、最具经济效益的方式的时候,美光便会将 EUV 技术纳入产品组合里面。

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