X射线物理基础

陶陶小哈尼

已于 2022-07-05 15:57:00 修改

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分类专栏：计算机断层成像技术文章标签：其他

于 2022-07-05 15:51:25 首次发布

本文链接：https://blog.csdn.net/hss875881611/article/details/125615358

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本文介绍了X射线的产生原理，包括X光子的能量计算以及三种主要产生方式：韧致辐射、特征辐射。接着详细阐述了X射线与物质相互作用的三种类型——光电效应、康普顿效应和相干散射，讨论了它们的能量依赖性和对成像效果的影响。

摘要由CSDN通过智能技术生成

1 X射线产生原理

X光子是由高能电子撞击靶材料所产生（动能转化为电磁辐射），X射线的能量单位为ev，1ev=1.602E-19J，即一个电子经过1V电压加速后具有的动能。由电磁波能量计算公式 $E=\tfrac{hc}{\lambda }$ 推出X光子能量计算公式 $E=\tfrac{1.24E\dotplus 3}{\lambda } eV\ast nm$ ，如波长为10nm的X光子能量为124eV。

高速电子与靶材料相撞时，主要有下图a、b、c三种作用类型，a、c中高速电子与原子核作用，通过轫致辐射产生X光子，对于a，高速电子靠近原子核，由于正负电荷之间的相互作用，高速电子减速并发生偏转，此过程中产生X射线，射线能量由相互作用的逐步增强而逐渐增大，因此此过程会产生的X光子覆盖了光谱的整个能量范围。而c中，高速电子直接撞击原子核，全部能量都通过轫致辐射产生X光子，这类相互作用产生的X射线能量为X射线能量谱的上限，这类碰撞发生的概率很低。b中主要通过高速电子与靶原子的内层电子发生碰撞，通过特征辐射产生X光子。图中X光谱中的特征峰即为此过程所产生。特征X射线的能量为波尔原子模型中两个壳层结合能之差，如钨的K、L、M和N层结合能分别为70keV、11keV、3keV和0.5keV，当一个K层电子被释放，且空穴被一个L层电子填充，产