POSS甲基丙烯酰氧丙基环四硅氧烷 杰化新材料 四硅氧烷 有机、无机杂化环四硅氧烷 有机无机杂化环状结构

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分类专栏： POSS 文章标签： 产品运营
于 2022-11-07 01:14:43 首次发布
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甲基丙烯酰氧丙基环四硅氧烷（JH-CTS202）是一种有机、无机杂化环四硅氧烷，具有低收缩率和高透过率（98%）。广泛应用于胶黏剂、涂层体系，提升附着力、抗刮性、耐温性和耐损性，同时作为纳米二氧化硅的分散增溶剂。
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甲基丙烯酰氧丙基环四硅氧烷  JH-CTS202

概述：

是一种有机、无机杂化环四硅氧烷，可用于胶黏剂或涂层体系，具

有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。  

物理指标：

外观 ：无色透明黏稠液体

黏度：100-300cps

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POSS 四硅氧烷 甲基丙烯酰氧丙基环四硅氧烷 JH-CTS202 杰化
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有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。有机无机杂化环状结构，具有低收缩率、高透过性（98%）、高光泽、高硬度及高耐磨性。是一种有机、无机杂化环四硅氧烷，可用于胶黏剂或涂层体系，具。乙烯基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂。用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善。室温密封保存，避免与强碱性物质接触。溶于乙醇、异丙醇、PGMEA。纳米二氧化硅的分散增溶剂。
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可用于胶黏剂或涂层体系，具有低收缩率，高透过率（98%），可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度，还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。有机无机杂化纳米笼状结构，具有低收缩率、高透过性（98%）、是一种有机、无机杂化的分子尺寸为纳米级的笼状聚倍半硅氧烷，乙烯基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂。用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善。室温密封保存，避免与强碱性物质接触。3、纳米二氧化硅的分散增溶剂。以上资料来自上海杰化新材料。高光泽、高硬度及高耐磨性。4、高透光硬化层（9H。
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