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光刻胶
jinrifenxiang
这个作者很懒,什么都没留下…
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紫外光刻胶 AR-N 4400/电子束光刻胶 AR-N7700/AR-P617 电子束光刻胶
光刻胶又称抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其性质发生变化的耐蚀刻薄膜材料。按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正性光刻胶、紫外负性光刻胶)、深紫外光刻胶、电子束胶、X射线胶、离子束胶等。AR-N 4400紫外光刻胶具有感光波段:i-line(365nm)、g-line(436nm)、化学放大胶,具有非常高的灵敏度、高分辨率、高对比度的特点,得到的undercut结构,用于lift-off工艺及集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等。电子束光刻胶 ma原创 2022-06-02 13:53:18 · 580 阅读 · 0 评论 -
正/负性光刻胶-光刻胶SU-8系列
SU-8光刻胶属于厚胶Thick Resist,常见的SU-8有SU-82000.5/SU-82000.2/SU-82007/SU-8 3000系列负性光刻胶/SU-8TF6000系列负性光刻胶/SU-8 3050负性光刻胶。常被用于微机械加工及其他微电子应用领域,如制作电镀模具,传感器,微纳结构等。SU-8光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射原创 2022-06-02 13:50:25 · 4073 阅读 · 1 评论