正/负性光刻胶-光刻胶SU-8系列

SU-8光刻胶属于厚胶Thick Resist，常见的SU-8有SU-82000.5/SU-82000.2/SU-82007/SU-8 3000系列负性光刻胶/SU-8TF6000系列负性光刻胶/SU-8 3050负性光刻胶。常被用于微机械加工及其他微电子应用领域，如制作电镀模具，传感器，微纳结构等。

SU-8光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形;在电镀时可以直接作为绝缘体使用。

SU-8具有分子量低、溶解度好、透明度高、可形成光滑膜层、玻璃化温度（Tg）低、粘度可降低、单次旋涂可得超厚膜层（650μm）、 涂层厚度均匀、高宽比大（10:1）、 耐化学性优异、生物相容性好（微流控芯片）的特点。