SU-8光刻胶是一种常用的厚胶，尤其适用于微机械加工和微电子应用，如制作电镀模具和传感器。这种负性光刻胶在近紫外光下曝光后能形成高深宽比的垂直侧壁结构，并具有出色的力学性能、抗腐蚀性和热稳定性。其特点包括低光吸收、高透明度、良好的溶解性、超厚膜层形成能力以及优异的耐化学性。SU-8光刻胶在微流控芯片等领域因其生物相容性而备受青睐。
SU-8光刻胶属于厚胶Thick Resist，常见的SU-8有SU-82000.5/SU-82000.2/SU-82007/SU-8 3000系列负性光刻胶/SU-8TF6000系列负性光刻胶/SU-8 3050负性光刻胶。常被用于微机械加工及其他微电子应用领域，如制作电镀模具，传感器，微纳结构等。
SU-8光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形;在电镀时可以直接作为绝缘体使用。
SU-8具有分子量低、溶解度好、透明度高、可形成光滑膜层、玻璃化温度（Tg）低、粘度可降低、单次旋涂可得超厚膜层（650μm）、 涂层厚度均匀、高宽比大（10:1）、 耐化学性优异、生物相容性好（微流控芯片）的特点。
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